Вышедшие номера
Двухканальные псевдоморфные HEMT-гетероструктуры InGaAs/AlGaAs/GaAs с импульсным легированием
Егоров А.Ю.1, Гладышев А.Г.1, Никитина Е.В.1, Денисов Д.В.1, Поляков Н.К.1, Пирогов Е.В.1, Горбацевич А.А.1
1Санкт-Петербургский физико-технический научно-образовательный центр Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 23 ноября 2009 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2010 г.

Двухканальные псевдоморфные HEMT-гетероструктуры InGaAs/AlGaAs/GaAs с импульсным легированием (delta-легированием) реализованы методом молекулярно-пучковой эпитаксии на многоподложечной промышленной установке. Подвижность электронов при комнатной температуре, определенная методом Холла, составляет 6550 и 6000 см2/B·с при концентрации электронов в канале 3.00·1012 и 3.36·1012 см-2 соответственно. Гетероструктуры HEMT-транзисторов, изготавливаемые в одном процессе, имеют высокую однородность структурных и электрофизических характеристик по всей площади пластин диаметром 76.2 мм и высокую воспроизводимость характеристик от процесса к процессу.