Вышедшие номера
Оптимизация асимметричных барьерных слоев в лазерных гетероструктурах InAlGaAs/AlGaAs на подложках GaAs
Жуков А.Е.1,2, Асрян Л.В.3, Семенова Е.С.4, Зубов Ф.И.1,2, Крыжановская Н.В.1, Максимов М.В.5,1,2
1Санкт-Петербургский Академический университет --- научно-образовательный центр нанотехнологий Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Санкт-Петербург, Россия
3Virginia Polytechnic Institute and State University, Blacksburg, Virginia, USA
4DTU Fotonik, Technical University of Denmark, Kgs. Lyngby, D, Denmark
5Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 29 декабря 2014 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2015 г.

Выполнены расчеты разрывов зон на гетерогранице для различных комбинаций гетеропар InAlGaAs/AlGaAs, которые могут быть синтезированы на подложках GaAs в режиме послойного псевдоморфного роста. Найдены закономерности, позволяющие реализовать асимметричный барьерный слой, обеспечивающий почти свободное прохождение дырок и наибольшую возможную высоту барьера для электронов. С учетом критической толщины индийсодержащего четверного твердого раствора определены оптимальные составы обоих соединений (In0.232Al0.594Ga0.174As/Al0.355Ga0.645As), при которых поток электронов через барьер минимален.