Вышедшие номера
Эпитаксиальный рост, электронные свойства и фотокатодные применения напряженных псевдоморфных слоев InGaAsP/GaAs
Альперович В.Л.1, Болховитянов Ю.Б.1, Чикичев С.И.1, Паулиш А.Г.1, Терехов А.С.1, Ярошевич А.С.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 14 февраля 2001 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2001 г.

Представлены результаты экспериментальных и теоретических исследований, направленных на создание высокоэффективных источников спин-поляризованных электронов на базе гетероэпитаксиальных, упруго-деформированных пленок четверного твердого раствора InGaAsP, выращенных методом жидкофазной эпитаксии на подложках GaAs. Синтезированы пленки InGaAsP толщиной 0.1-0.2 мкм, имеющие ширину запрещенной зоны в диапазоне 1.4-1.9 эВ и упругую деформацию до 1%, что обеспечило расщепление потолка валентной зоны на 40-60 мэВ и степень спиновой поляризации P фотоэмиттированных электронов до 80% с высоким квантовым выходом фотоэмиссии Y после активирования до состояния отрицательного электронного сродства путем адсорбции цезия и кислорода. Достигнуты рекордные значения эффективного параметра качества P2Y.