Вышедшие номера
О зависимости эффективности AIIIN светодиодов синего диапазона от структурного совершенства буферных эпитаксиальных слоев GaN
Лундин В.В.1, Николаев А.Е.2,1, Сахаров А.В.2,1, Усов С.О.1, Заварин Е.Е.2,1, Брунков П.Н.2, Яговкина М.А.2, Черкашин Н.А.3, Цацульников А.Ф.2,1
1Научно-технологический центр микроэлектроники и субмикронных гетероструктур Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
3Center for Material Elaboration & Structural Studies (CEMES) of the National Center for Scientific Research (CNRS), Toulouse, France
Поступила в редакцию: 23 мая 2013 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2013 г.

Исследованы AIIIN светодиодные структуры синего диапазона с активными областями на основе InGaN-наноостровков. Структуры были выращены методом МОС-гидридной эпитаксии на слоях GaN, выращенных с использованием различных методов начального формирования эпитаксиального слоя. Показано, что благодаря высокой локализации носителей в узкозонных InGaN-наноостровках эффективность электролюминесценции не зависит от плотности дислокаций и кристаллического совершенства материала.