Температурная зависимость туннельного тока через МТДП структуру
Добровольский В.Н.1, Нинидзе Г.К.1, Петрусенко В.Н.1
1Киевский национальный университет им. Тараса Шевченко, Киев, Украина
Поступила в редакцию: 16 июня 1993 г.
Выставление онлайн: 19 марта 1994 г.
В кремниевых МТДП структурах наблюдалась значительная температурная зависимость туннельного тока электронов из металла в полупроводник - в диапазоне 50/295 K ток увеличивался в три раза. Увеличение тока объяснено заселением с ростом температуры электронами металла более высоких энергетических уровней с большими значениями коэффициента туннельной прозрачности барьера между металлом и полупроводником. Развита теория, результаты которой согласуются с экспериментом.
- С. Зи. Физика полупроводниковых приборов, т. 1. М.: Мир (1984)
- В.Н. Добровольский, В.Н. Ловейко, Г.К. Нинидзе, В.Н. Петрусенко. ФТП, \bf 24, 1067 (1990)
- К.Б. Дюк. В кн.: Туннельные явления в твердых телах, 131. М.: Мир (1973)
- M.A. Green, J. Shewchun. Sol. St. Electron., 17, 349 (1974)
- А.Я. Вуль, С.В. Козырев, В.И. Федоров. ФТП, 15, 142 (1981)
- V. Kumar, W.E. Dahlke. Sol. St. Electron., 20, 143 (1977)
- Дж. Блекмор. Статистика электронов в полупроводниках. М.: Мир (1964)
- В.И. Стриха. Теоретические основы работы контакта металл--полупроводник. Киев: Наук. думка (1974)
- А.В. Саченко, О.В. Снитко. Фотоэффекты в приповерхностных слоях полупроводников. Киев: Наук. думка (1984)
- J.G. Simmons. J. Appl. Phys. 35, 2255 (1964)
- В.С. Фоменко. Эмиссионные свойства материалов. Справочник. Киев: Наук. думка (1981)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.