ФТП, 2009, том 43, выпуск 7

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Электропроводность аморфных пленок халькогенидных соединений в сильных электрических полях

Э.Н.Воронков, С.А.Козюхин\kern1pt*

Московский энергетический институт (Технический университет),
111250 Москва, Россия
* Институт общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова Российской академии наук,
119991 Москва, Россия

(Получена 27 октября 2008 г. Принята к печати 5 ноября 2008 г.)

Исследовано влияние напряженности электрического поля и температуры на электропроводность аморфных тонких пленок халькогенидных соединений. Показано, что при напряженности электрического поля, превышающей 104 В/см, ток растет экспоненциально с увеличением напряжения. При этом энергия активации температурной зависимости проводимости уменьшается с ростом напряженности электрического поля. На основе допущения о доминирующем влиянии на проводимость роста концентрации носителей заряда с увеличением напряженности поля предложена модель, которая удовлетворительно объясняет экспериментальные результаты. В качестве характеристических параметров модели использована эффективная подвижность носителей заряда ~10-2 см2/(В·с) и характеризующая влияние электрического поля длина активации ~(10-30) нм.

PACS: 61.43.Dq, 73.50.Fq, 73.61.Jc

 PDF версия (172Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2009, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster