ФТП, 2005, том 39, выпуск 4

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Влияние p-легирования активной области на температурную стабильность характеристик лазеров на InAs/GaAs-квантовых точках

И.И.Новиков , Н.Ю.Гордеев, Л.Я.Карачинский, М.В.Максимов, Ю.М.Шерняков,
А.Р.Ковш *, И.Л.Крестников *, А.В.Кожухов *, С.С.Михрин *, Н.Н.Леденцов *

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук,
194021 Санкт-Петербург, Россия
* NL Nanosemiconductor GmbH,
44227 Dortmund, Germany

(Получена 6 сентября 2004 г. Принята к печати 17 сентября 2004 г.)

Проведено детальное исследование влияния легирования активной области длинноволновых лазеров на InAs--GaAs-квантовых точках акцепторной примесью на их характеристики. Показано, что увеличение степени легирования приводит к росту характеристической температуры и увеличению диапазона температурной стабильности пороговой плотности тока. В лазере со степенью легирования порядка 2·1012 см-2 акцепторов на одну плоскость квантовых точек продемонстрирована характеристическая температура 1200 K в диапазоне температур 15-75oC, а также постоянное значение дифференциальной квантовой эффективности в диапазоне температур 15-65oC. Для оптимизированной структуры максимальная достигнутая выходная мощность в непрерывном режиме составила 4.4 Вт.

 PDF версия (407Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2005, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster