ФТП, 2004, том 38, выпуск 6

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Исследование физических механизмов лазерной коррекции
и стабилизации параметров структур Al-n-n+-Si-Al
с барьером Шоттки

Г.И.Воробец , М.М.Воробец, В.Н.Стребежев, Е.В.Бузанeва *, А.Г.Шкавро *

Черновицкий национальный университет им. Ю. Федьковича (физический факультет),
58012 Черновцы, Украина
* Киевский национальный университет им. Т. Шевченко (радиофизический факультет),
01017 Киев, Украина

(Получена 17 июля 2003 г. Принята к печати 25 сентября 2003 г.)

Методами оптической и растровой электронной микроскопии в сочетании с послойным химическим травлением исследованы физические процессы твердофазной диффузии в сформированных на свободной поверхности кремния и в окнах SiO2 бескорпусных тонкопленочных структурах Al-n-n+-Si-Al с барьером Шоттки при импульсном лазерном облучении.

 PDF версия (127Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2004, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster