ФТП, 2003, том 37, выпуск 9

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Термическая стабильность и трансформация молекул C60, нанесенных поверх пленки кремния на поверхность (111) иридия

Н.Р.Галль, Е.В.Рутьков, А.Я.Тонтегоде

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук,
194021 Санкт-Петербург, Россия

(Получена 13 января 2003 г. Принята к печати 13 января 2003 г.)

В сверхвысоковакуумных условиях изучена термическая стабильность и трансформация молекул C60, нанесенных поверх пленки кремния на поверхность (111) иридия в интервале температур 300--1900 K. Показано, что весь температурный интервал распадается на четыре последовательных подинтервала, для каждого из которых характерен свой доминирующий процесс: термостабильность пленок C60 (T<600 K); десорбция молекул фуллеренов из второго и последующих молекулярных слоев (800--900 K); распад этих молекул в первом, контактирующем с подложкой слое (650--850 K); графитизация углеродного слоя и область термостабильности двумерной графитовой пленки (900--1700 K); термодесорбция углерода с поверхности (T>1900 K). Характер протекающих процессов остается качественно неизменным при переходе от субмонослойных пленок Si к пленкам толщиной в 4--5 монослоев.

 PDF версия (611Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2003, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster