Вышедшие номера
Влияние температуры осаждения пленки AlOx методом спрей-пиролиза на ее пассивирующие свойства в конструкции кремниевого солнечного элемента
Унтила Г.Г.1, Кост Т.Н.1, Чеботарёва А.Б.1, Закс М.Б.2, Ситников А.М.2, Солодуха О.И.2
1Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына Московского государственного университета им. М.В. Ломоносова, Москва, Россия
2ООО "Солнечный ветер", Краснодар, Россия
Поступила в редакцию: 21 ноября 2011 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2012 г.

Исследовано влияние температуры осаждения пленки AlOx в диапазоне 330-530oC методом спрей-пиролиза на параметры кремниевых (n+pp+)Cz-Si/AlOx солнечных элементов при тыльном освещении. Обнаружено, что с ростом температуры осаждения AlOx уменьшаются все тыльные параметры: фототок с 25.4 до 24.1 мА/см2, фотонапряжение с 611 до 598 мВ, эффективность с 12.2 до 10.9%, что свидетельствует об ухудшении пассивации p+-поверхности пленкой AlOx. Сделан вывод, что с увеличением температуры осаждения AlOx растет величина положительного заряда, встроенного в нестехиометрический межфазный слой SiOx, образующийся между c-Si и AlOx в процессе осаждения AlOx, что приводит к экранированию отрицательного заряда, локализованного на границе AlOx/SiOx, и соответственно к уменьшению индуцированной полем пассивации.