Вышедшие номера
Магнетронное осаждение тонких пленок твердого раствора (SiC)1-x(AlN)x
Гусейнов М.К.1, Курбанов М.К.1, Билалов Б.А.1, Сафаралиев Г.К.1
1Дагестанский государственный технический университет, Махачкала, Россия
Поступила в редакцию: 27 апреля 2009 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2010 г.

Приведены результаты теоретической оценки таких важных параметров процесса магнетронного распыления, как протяженность зоны термализации атомов и расстояние от мишени до условного анода. Методом магнетронного распыления поликристаллических мишеней SiC-AlN на подложках SiC и Al2O3 получены тонкие пленки твердого раствора (SiC)1-x(AlN)x. Методами рентгенографии и электронной микроскопии проведены исследования структуры, состава пленок. Установлены факторы, определяющие состав и структуру пленок, а также условия формирования монокристаллических пленок (SiC)1-x(AlN)x на подложках SiC.