Вышедшие номера
Образование дислокационных дефектов при заращивании квантовых точек InAs в GaAs
Берт Н.А.1, Колесникова А.Л.2, Неведомский В.Н.1, Преображенский В.В.3, Путято М.А.3, Романов А.Е.1, Селезнев В.М.3, Семягин Б.Р.3, Чалдышев В.В.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Институт проблем машиноведения РАН, Санкт-Петербург, Россия
3Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 30 декабря 2008 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2009 г.

Представлены электронно-микроскопические свидетельства дислокационной релаксации напряжений вблизи квантовых точек InAs, перешедших в объем GaAs путем заращивания. Обнаружено, что в некоторых объемных квантовых точках образуются дислокационные дефекты, не выходящие на поверхность пленки. Это указывает на релаксацию напряжений в заглубленном состоянии квантовой точки, а не на стадии образования и роста островка InAs на поверхности GaAs. Приводятся модели внутренней дислокационной релаксации заращенных квантовых точек. PACS: 61.72.Ff, 61.72.Lk, 81.07.Ta