Вышедшие номера
Проводимость слоев халькогенидного стеклообразного полупроводника Ge2Sb2Te5 в сильных электрических полях
Лебедев Э.А.1, Козюхин С.А.2, Константинова Н.Н.1, Казакова Л.П.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Институт общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова Российской академии наук, Москва, Россия
Поступила в редакцию: 30 марта 2009 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2009 г.

Изучено влияние сильных электрических полей на проводимость слоев толщиной 0.5-1 мкм халькогенидного стеклообразного полупроводника состава Ge2Sb2Te5, который используется для ячеек фазовой памяти. Установлено, что в сильных полях проявляются зависимость тока I от напряжения U вида I propto Un с показателем степени n~2, связанная с токами, ограниченными пространственным зарядом, и зависимость проводимости sigma от поля F вида sigma=sigma0exp(F/F0), где F0=6·104 B·см-1, обусловленная ионизацией локальных центров. Определенное из величины токов значение подвижности составляет 10-3-10-2 см2/B·c. PACS: 71.55.Jv, 73.40.Sx, 72.80.Ng, 73.20.Jc