Вышедшие номера
Влияние примеси Bi на основные параметры вольт-амперных характеристик полупроводника с фазовой памятью Ge2Sb2Te5
Фефелов С.А.1, Казакова Л.П.1,2, Богословский Н.А.1, Былев А.Б.2, Гущина Е.В.1, Толепов Ж.К.3, Жакыпов А.С.3, Приходько О.Ю.3
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный лесотехнический университет им. С.М. Кирова, Санкт-Петербург, Россия
3Казахский национальный университет им. Аль-Фараби, Алматы, Казахстан
Email: s.fefelov@list.ru
Поступила в редакцию: 12 апреля 2024 г.
В окончательной редакции: 19 сентября 2024 г.
Принята к печати: 1 октября 2024 г.
Выставление онлайн: 28 ноября 2024 г.

Проведены измерения вольт-амперных характеристик тонкопленочных образцов материала с фазовой памятью Ge2Sb2Te5 в режиме генератора тока. Исследовано влияние примеси Bi на основные параметры вольт-амперных характеристик. Полученные данные свидетельствуют о повышении устойчивости электрических свойств Ge2Sb2Te5 при легировании висмутом с концентрацией 6.3 и 12.0 ат%. Установлено исчезновение колебаний напряжения после переключения при введении примеси Bi. Ключевые слова: халькогенидные стеклообразные полупроводники, Ge2Sb2Te5, память с изменяемым фазовым состоянием, легирование висмутом.