Вышедшие номера
Ультрафиолетовая люминесценция тонких пленок GaN, полученных методом радикало-лучевой геттерирующей эпитаксии на пористых подложках GaAs (111)
Кидалов В.В.1, Сукач Г.А.2, Ревенко А.С.1, Потапенко Е.П.2
1Бердянский государственный педагогический университет, Бердянск, Украина
2Институт физики полупроводников Национальной академии наук Украины, Киев, Украина
Поступила в редакцию: 5 февраля 2003 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2003 г.

Методом радикало-лучевой геттерирующей эпитаксии получены пленки GaN толщиной 0.1 мкм на пористых подложках GaAs(111). При температуре 4.2 K в спектре фотолюминесценции доминируют экситонные полосы люминесценции. На основе анализа энергетического положения максимума экситонных полос сделан вывод о наличии механичеcких напряжений в полученных пленках GaN.