Вышедшие номера
Поляризационные процессы в тонких слоях стеклообразной гибридной системы Ge28.5Pb14.0Fe1.0S56.5
Кастро Арата Р.А.1, Грабко Г.И.2, Кононов А.А.1, Анисимова Н.И.1, Крбал М.3, Колобов А.В.1,4
1Российский государственный педагогический университет им. А.И. Герцена, Санкт-Петербург, Россия
2Забайкальский государственный университет, Чита, Россия
3Университет Пардубице, 530 02 Пардубице, Чехия
4Национальный институт передовых промышленных наук и технологий, 30 Хигаси, Цукуба, Япония
Email: recastro@mail.ru
Поступила в редакцию: 24 февраля 2022 г.
В окончательной редакции: 25 марта 2022 г.
Принята к печати: 25 марта 2022 г.
Выставление онлайн: 29 апреля 2022 г.

Представлены результаты исследования поляризационных свойств тонких слоев стеклообразной гибридной системы Ge28.5Pb14.0Fe1.0S56.5. Обнаружен процесс дипольно-релаксационной поляризации, энергия активации которого оказалась равной Ea= (0.97± 0.14) эВ. Выявлено, что перенос заряда в исследуемой гибридной системе Ge28.5Pb14.0Fe1.0S56.5 является термически активированным процессом с энергией активации, равной Ea= (0.4± 0.01) эВ. Результаты расчетов позволяют заключить, что стеклообразующая способность системы (Ge28.5Pb15.0S56.5)100-xFex линейно уменьшается с увеличением доли металла в структуре стекла. Ключевые слова: прыжковый механизм переноса, тонкие слои, стеклообразная гибридная система, неподеленные электронные пары.
  1. D. Cha, H. Kim, Y. Hwang, J. Jeong, J. Kim. Appl. Optics, 51 (23), 5649 (2012)
  2. G.E. Snopatin, V.S. Shiryaev, V.G. Plotnichenko, E.M. Dianov, M.F. Churbanov. Inorg. Mater., 45 (13), 1439 (2009)
  3. J. Charrier, M.L. Brandily, H. Lhermite, K. Michel, B. Bureau, F. Verger, V. Nazabal. Sensors Actuators B, 173, 468 (2012)
  4. B. Zhang, W. Guo, Y. Yu, C. Zhai, S. Qi, A. Yang, L. Li, Z. Yang, R. Wang, D. Tang, G. Tao, B. Luther-Davies. J. Am. Ceram. Soc., 98 (5), 1389 (2015)
  5. A. Kolobov, P. Fons, A. Frenkel, A. Ankudinov, J. Tominaga, T. Uruga. Nature Materials, 3, 703 (2004)
  6. S. Sekander, C. Wright. J. Appl. Phys., 95 (2), 504 (2004)
  7. L.A. Lacaita. Solid State Electron., 50 (1), 24 (2006)
  8. A. Redaelli, A. Pirovano, A. Benvenuti, A.L. Lacaita. Chem. Rev., 103, 101 (2008)
  9. M.I. Mohammed, A.S. Abd-rabo, E.A. Mahmoud. Egyptian J. Solids, 25 (1), 49 (2002)
  10. L.A. Wahab, H.H. Amer. Egyptian J. Solids, 28 (2), 255 (2005)
  11. Z.S. El-Mandouh, H.A. EL-Meleeg. J. Appl. Sci. Res., 4 (3), 296 (2008)
  12. A.E. Betkheet, N.A. Hegab. Vacuum, 83, 391 (2009).
  13. A. Dwivedi, R. Arora, N. Mehta, N. Choudhary, A. Kumar. Semicond. Phys., Quant. Electron. Optoelectron., 8 (3), 45 (2005)
  14. M. Kastner. Phys. Rev. Lett., 28 (6), 355 (1972)
  15. A.V. Kolobov, H. Oyanagi, K. Tanaka, K. Tanaka. Phys. Rev. B, 55 (2), 726 (1997)
  16. R.A. Castro-Arata, G.I. Grabko, A.A. Kononov, N.I. Anisimova, M. Krbal, A.V. Kolobov. Semiconductors, 55 (5), 450 (2021)
  17. К. Kremer, А. Schonhals (еds.) Broadband Dielectric Spectroscopy (Springer, Berlin-Heidelberg, 2003) p. 729
  18. С.Н. Мустафаева. Журн. радиоэлектроники, 5, 11 (2008)
  19. A.K. Jonscher. Universal relaxation law (London, Chelsea Dielectric Press, 1996) p. 415
  20. Н. Мотт, Э. Дэвис. Электронные процессы в некристаллических веществах (М., Мир, 1982) т. 1, с. 368
  21. И.В. Кляцкина, И.К. Шлимак. ФТП, 12 (1), 134 (1978)
  22. J.C. Giuntini, J.V. Zanchetta, D. Jullien, R. Eholie, P. Houenou. J. Non-Cryst. Sol., 45 (1), 57 (1981)
  23. G. Bordovsky, V. Bordovsky, N. Anisimova, R. Castro, V. Seldjaev. Abstracts II Int. Materials Symp. (Materials, 2003; April 2003, Caparica, Portugal) p. 59
  24. S.R. Elliot. Adv. Phys., 36 (2), 135 (1987)
  25. G.A. Bordovskii, R.A. Castro. Glass Phys. Chem., 32 (3), 315 (2009)
  26. С.А. Дембовский, Е.А. Чечеткина. Стеклообразование (М., Наука, 1990) с. 279
  27. L. Zhenhua. J. Non-Cryst. Sol., 127 (3), 298 (1991)
  28. A.V. Kolobov, J. Tominaga. Chalcogenides: metastability and phase-change (Springer, 2012) p. 181.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.