"Физика и техника полупроводников"
Вышедшие номера
Влияние асимметрии расположения металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при реактивно-ионном травлении массивных подложек
НПО «Государственный институт прикладной оптики», НИР, №08/2017
Министерство образования и науки Российской Федерации, на основе госзадания, № 007-ГЗ/43363/26
Полетаев С.Д.1, Любимов А.И.2
1Институт систем обработки изображений РАН, Самара, Россия
2Государственный институт прикладной оптики, Казань, Россия
Email: sergpolet@gmail.com, las126@yandex.ru
Поступила в редакцию: 21 июня 2021 г.
В окончательной редакции: 18 июля 2021 г.
Принята к печати: 13 августа 2021 г.
Выставление онлайн: 14 сентября 2021 г.

Теоретически и экспериментально исследовано влияние степени асимметрии расположения металлических масок на согласование нижнего электрода с высокочастотным генератором смещения при селективном реактивно-ионном травлении массивных подложек в плазмообразующих газовых смесях на основе фреона-14. Теоретически показано отсутствие влияния асимметрии расположения маски на удельную реактивную мощность. Показано, что на краю подложки, особенно с маской, возникает резкий рост плотности высокочастотного тока, доказывающий преимущественно поверхностный (торцевой) характер его протекания. Установлено влияние расположения маски на поведение плотности электрических зарядов, коррелирующее с распределением плотности высокочастотного тока в приповерхностном слое подложки. Перераспределения плотности заряда химически активных частиц плазмы на краю маски при этом обнаружено не было. В соответствии с полученными теоретическими результатами экспериментально показано, что металлические маски с соотношением длин сторон 36/0 мм снижают коэффициент отражения по мощности в пределах 5%. Ключевые слова: дифракционный оптический элемент, реактивно-ионное травление, индуктивно связанная плазма, контактная маска, нижний электрод, моделирование COMSOL Multiphysics.
  1. D.L. Flamm, V.M. Donelly. VLSI Electron. Microstructure Sci., 8, 190 (1985)
  2. S.B. Odinokov, G.R. Sagatelyan, M.S. Kovalev, K.N. Bugorkov. J. Opt. Technol., 86 (5), 317 (2019). DOI: 10.1364/JOT.86.000317
  3. V.S. Pavelyev, S.A. Borodin, N.L. Kazanskiy, G.F. Kostyuk, A.V. Volkov. Opt. Laser Technol., 39 (6), 1234 (2007). DOI: 10.1016/j.optlastec.2006.08.004
  4. N.L. Kazanskiy, V.A. Kolpakov. Optical materials: Microstructuring surfaces with off-electrode plasma (CRC Press, 2017). DOI: 10.1201/b21918
  5. Methods for Computer Design of Diffractive Optical Elements, ed. by Victor A. Soifer (John Wiley \& Sons, Inc., 2002)
  6. V. Korolkov, D. Belousov. Int. Conf. Information Technol. and Nanotechnol. ( ITNT), (2020) p. 1. DOI: 10.1109/ITNT49337.2020.9253171
  7. Н.М. Лебедева, Т.П. Самсонова, Н.Д. Ильинская, С.И. Трошков, П.А. Иванов. ЖТФ, 90 (6), 997 (2020). DOI: 10.21883/JTF.2020.06.49289.12-20 [N.M. Lebedeva, T.P. Samsonova, N.D. Il'inskaya, S.I. Troshkov, P.A. Ivanov. JTF, 65 (6), 957 (2020). DOI: 10.1134/S1063784220060195]
  8. B. Zhang, X. Zhang. Vacuum, 174, 109215 (2020). https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2020.109215
  9. C. Jia, J. Linhong, Z. Yu, S. Yixiang. J. Semicond., 31 (3), 032004 (2010). DOI: 10.1088/1674-4926/31/3/032004
  10. T. Xiao, D. Ni. Chem. Eng. Res. Des., 164, 113 (2020). https://doi.org/10.1016/j.cherd.2020.09.013
  11. A.O. Brezmes, C. Breitkopf. Vacuum, 109, 52 (2014). http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2014.06.012
  12. П.А. Носов, А.Ф. Ширанков, Р.С. Третьяков, А.Г. Григорьянц, А.Я. Ставертий. Изв. вузов. Приборостроение, 59 (12), 1028 (2016). DOI: 10.17586/0021-3454-2016-59-12-1028-1033
  13. N.L. Kazanskiy, G.V. Uspleniev, A.V. Volkov. Proc. SPIE, 4316, 193 (2000). DOI: 10.1117/12.407678
  14. С.Д. Полетаев, А.И. Любимов. ЖТФ, 91 (4), 657 (2021). DOI: 10.21883/JTF.2021.04.50630.271-20 [S.D. Poletayev, A.I. Lyubimov. JTF, 66 (4), 639 (2021). DOI: 10.1134/S1063784221040150]
  15. E.T. Lim, J.S. Ryu, C.W. Chung. Thin Sol. Films, 665, 1 (2018). https://doi.org/10.1016/j.tsf.2018.08.046
  16. M.A. Butt, S.N. Khonina N.L. Kazanskiy. Computer Optics, 43 (6), 1079 (2019). DOI: 10.18287/2412-6179-2019-43-6-1079-1083
  17. С.Д. Полетаев, А.И. Любимов. Письма ЖТФ, 47 (11), 44 (2021). DOI: 10.21883/PJTF.2021.11.51008.18717
  18. И.Е. Ефимов, Г.А. Останькович. Радиочастотные линии передачи (М., Связь, 1977)
  19. Е. Берлин, С. Двинин, Л. Сейдман. Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок (М., Техносфера, 2007)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.