Вышедшие номера
Home » Физика и техника полупроводников » Год 2018, выпуск 2 » Статья стр. 189
<<<>>>
Влияние термических и плазменных обработок на фотолюминесценцию пленок оксида цинка
DOI: 10.21883/FTP.2018.02.45442.8607
Переводная версия: 10.1134/S1063782618020021
Абдуллин Х.А.1, Гриценко Л.В.1,2, Кумеков С.Е.2, Мархабаева А.А.1, Теруков Е.И.3
1Национальная нанотехнологическая лаборатория открытого типа (ННЛОТ), Казахский национальный университет им. аль-Фараби, Алматы, Казахстан
2Казахский национальный исследовательский технический университет им. К.И. Сатпаева, Алматы, Казахстан
3Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: aiko_marx@mail.ru
Поступила в редакцию: 11 апреля 2017 г.
Выставление онлайн: 20 января 2018 г.
PDF версия
Исследованы структура и электрические свойства пленок ZnO, влияние отжига и плазменной обработки в атмосфере водорода на спектры фотолюминесценции пленок ZnO. Кратковременная плазменная обработка в атмосфере водорода приводит к улучшению электрических свойств и появлению интенсивной полосы краевой фотолюминесценции. Наблюдалась сильная зависимость интенсивности и формы спектра краевой фотолюминесценции от условий предварительного отжига. Показано, что спектр фотолюминесценции состоит из нескольких вкладов. Обнаружен эффект инициированного ультрафиолетовым светом увеличения интенсивности фотолюминесценции, который имеет обратимый характер, фотолюминесценция усиливается после ультрафиолетовой засветки и уменьшается до начального значения при хранении образцов в темноте. Обсуждается природа наблюдаемых метастабильных мелких доноров. DOI: 10.21883/FTP.2018.02.45442.8607
  1. M. Willander, O. Nur, J.R. Sadaf, M.I. Qadir, S. Zaman, A. Zainelabdin, N. Bano, I. Hussain. Materials, 3, 2643 (2010)
  2. A. Ko odziejczak-Radzimska, T. Jesionowski. Materials, 7, 2833 (2014)
  3. S.K. Arya, S. Saha, J.E. Ramirez-Vick, V. Gupta, S. Bhansali, S.P. Singh. Analytica Chimica Acta, 373, 1 (2012)
  4. M.A. Mahjoub, G. Monier. C. Robert-Goumet, F. Reveret, M. Echabaane, D. Chaudanson, M. Petit, L. Bideux, B. Gruzza. J. Phys. Chem. C, 120, 11652 (2016)
  5. R. Kumar, O. Al-Dossary, G. Kumar, A. Umar. Nano-Micro Letters, 7, 97 (2015)
  6. M. Cho, I. Park. J. Sensor Sci. Techn., 25, 103 (2016)
  7. P. Rauwel, M. Salumaa, A. Aasna, A. Galeckas, E. Rauwel. J. Nanomaterials, 2016, Article ID 5320625, 12 pages (2016)
  8. Manoranjan Ghosh, R.S. Ningthoujam, R.K. Vatsa, D. Das, V. Nataraju, S.C. Gadkari, S.K. Gupta, D. Bahadur. J. Appl. Phys., 110, 054309 (2011)
  9. P.A. Rodnyi, I.V. Khodyuk. Opt. Spectroscopy, 111, 776 (2011)
  10. M. Matsubara, M.N. Amini, R. Saniz, D. Lamoen, B. Partoens. Phys. Rev. B, 86, 165207 (2012)
  11. Da-Ren Hang, Sk Emdadul Islam, Krishna Hari Sharma, Shiao-Wei Kuo, Cheng-Zu Zhang, Jun-Jie Wang. Nanoscale Res. Lett., 9, 632 (2014)
  12. Min Young Cho, Min Su Kim, Hyun Young Choi, Kwang Gug Yim, Jae-Young Leem. Bull. Korean Chem. Soc., 32, 880 (2011)
  13. Z.N. Urgessa, J.R. Botha, M.O. Eriksson, C.M. Mbulanga, S.R. Dobson, S.R. Tankio Djiokap, K.F. Karlsson, V. Khranovskyy, R. Yakimova, Per-Olof Holtz. J. Appl. Phys., 116, 123506 (2014)
  14. P.F. Cai, J.B. You, X.W. Zhang, J.J. Dong, X.L. Yang, Z.G. Yin, N.F. Chen. J. Appl. Phys., 105, 083713 (2009)
  15. J.J. Dong, X.W. Zhang, J.B. You, P.F. Cai, Z.G. Yin, Q. An, X.B. Ma, P. Jin, Z.G. Wang, Paul K. Chu. ACS Appl. Mater. Interfaces, 2, 1780 (2010)
  16. A. Dev, R. Niepelt, J.P. Richters, C. Ronning, T. Voss. Nanotechnology, 21, 065709 (2010)
  17. D.A. Melnick. J. Chem. Phys., 26, 1136 (1957)
  18. D. Cammi, C. Ronning. Advances in Condens. Matter Phys., 2014, Article ID 184120, 5 pages (2014)
  19. R. Gurwitz, R. Cohen, I. Shalish. J. Appl. Phys., 115, 033701 (2014)
  20. M.E. Labzowskaya, I.Kh. Akopyan, B.V. Novikov, A.E. Serov, N.G. Filosofov, L.L. Basov, V.E. Drozd, A.A. Lisachenko. Phys. Procedia, 76, 37 (2015)
  21. W. Shan, W. Walukiewicz, J.W. Ager III, K.M. Yu, H.B. Yuan, H.P. Xin, G. Cantwell, J.J. Song. Appl. Phys. Lett., 86, 191911 (2005)
  22. B. Ullrich, A.K. Singh, M. Bhowmick, P. Barik, D. Ariza-Flores, Haowen Xi, J.W. Tomm. AIP Advances, 4, 123001 (2014)
  23. A. Janotti, C.G. Van de Walle. Rep. Prog. Phys., 72, 126501 (2009)
  24. Dong-min Lee, Jae-Kwan Kim, Jinchen Hao, Han-Ki Kim, Jae-Sik Yoon, Ji-Myon Lee. J. Alloys Comp., 583, 535 (2014)
  25. C.G. Van de Walle. Phys. Rev. Lett., 85, 1012 (2000)
  26. Fang-Hsing Wang, Hung-Peng Chang, Chih-Chung Tseng, Chia-Cheng Huang, Han-Wen Liu. Current Appl. Phys., 11, S12 (2011)
  27. A. Janotti, C.G Van de Walle. Nature Materials, 6, 44 (2006)
  28. S.J. Jokela, M.D. McCluskey. Phys. Rev. B, 72, 113201 (2005)
  29. G.A. Shi, M. Saboktakin, M. Stavola, S.J. Pearton. Appl. Phys. Lett., 85, 5601 (2004)
  30. M.D. McCluskey, M.C. Tarun, S.T. Teklemichael. J. Mater. Res., 27, 2190 (2012)
  31. J. Rodrigues, T. Holz, R.F. Allah, D. Gonzalez, T. Ben, M.R. Correia, T. Monteiro, F.M. Costa. Scientific Rep., 5, 10783 (2015)
  32. J.K. Dangbegnon, K. Talla, J.R. Botha. Optical Mater., 34, 920 (2012)
  33. J. Weber, E.V. Lavrov, F. Herklotz. Physica B, 407, 1456 (2012)
  34. Y.M. Strzhemechny, H.L. Mosbacker, D.C. Look, D.C. Reynolds, C.W. Litton, N.Y. Garces, N.C. Giles, L.E. Halliburton, S. Niki, L.J. Brillson. Appl. Phys. Lett., 84, 2545 (2004)
  35. M.G. Wardle, J.P. Goss, P.R. Briddon. Phys. Rev. Lett., 96, 205504 (2006).

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme