Вышедшие номера
Высокотемпературное облучение арсенида галлия
Пешев В.В.1, Смородинов С.В.1
1Сибирский физико-технический институт им. акад. В.Д. Кузнецова Томского государственного университета, Томск, Россия
Поступила в редакцию: 26 марта 1997 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 1997 г.

Методом нестационарной емкостной спектроскопии изучалась кинетика введения центров P2 и P3 в эпитаксиальных слоях GaAs n-типа при облучении электронами с энергией 4 МэВ в температурном интервале 380/ 550oC. Показано, что скорости введения центров не зависят от температуры в этом интервале. Установлено, что концентрация центров P2 пропорциональна D0.7, а центров P3 - D0.5, где D - доза облучения.
  1. D. Stievenard, J.C. Bourgoin. J. Appl. Phys., 59, 743 (1986)
  2. V.N. Brudnyi, V.V. Peshev. Phys. St. Sol. (a), 105, K57 (1988)
  3. D. Pons, J.C. Bourgoin. J. Phys. C: Sol. St. Phys., 18, 3839 (1985)
  4. В.А. Иванюкович, В.И. Карась, В.М. Ломако. ФТП, 24, 1427 (1990)
  5. М. Томпсон. Дефекты и радиационные повреждения в металлах (М., Мир, 1971)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.