Исследовано влияние поля поверхностного поляритона на фотоответ структуры металл-полупроводник. Рассмотрена задача о возбуждении поверхностного поляритона в трехслойной системе диэлектрик-металлический слой-полупроводник в приближении толстого слоя металла при наличии рельефной дифракционной решетки на границах раздела. Получено выражение для напряженности электрического поля и вектора Пойнтинга поверхностного поляритона в полупроводнике в зависимости от параметров металлического слоя и полупроводника. Проведено сравнение теоретических зависимостей с экспериментальными.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.