ФТП, 2009, том 43, выпуск 5

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Особенности процесса твердофазной рекристаллизации аморфизованных ионами кислорода структур кремний-на-сапфире

П.А.Александров\kern1pt, К.Д.Демаков, С.Г.Шемардов, Ю.Ю.Кузнецов\kern1pt

Российский научный центр \glqq Курчатовский институт\grqq,
123182 Москва, Россия

(Получена 18 июня 2008 г. Принята к печати 8 июля 2008 г.)

Малодефектные кремниевые пленки на сапфировой подложке были получены с использованием процесса твердофазной рекристаллизации. Для оценки кристаллического качества структур кремний-на-сапфире применялась рентгеновская кривая качания. Значения ширины на половине высоты максимума интенсивности (FWHM) показывают, что после имплантации ионов кислорода (энергия 130 кэВ, доза 1·1015 см-2) и последующего отжига (550oC/0.5 ч + 1000oC/1 ч) образуется кремниевый слой толщиной d=1000-2500 Angstrem высокого кристаллического качества.

PACS: 61.72.Dd, 61.72.Ff, 61.72.Tt, 61.80.Jh, 68.55.Jk

 PDF версия (123Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2009, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster