ФТП, 2008, том 42, выпуск 4

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Кинетика резистивного отклика тонких пленок SnO2-x
в газовой среде

С.В.Рябцев , А.В.Юкиш, С.И.Ханго, Ю.А.Юраков, А.В.Шапошник, Э.П.Домашевская

Воронежский государственный университет,
394006 Воронеж, Россия

(Получена 13 июня 2007 г. Принята к печати 11 июля 2007 г.)

Получены данные о газовой чувствительности тонких пленок SnO2-x в среде кислорода и водорода. Пленки были изготовлены окислением на воздухе слоев металлического олова при различных температурах. Немонотонная кинетика резистивного отклика образцов SnO2-x в условиях газовой адсорбции объяснена участием во взаимодействии адсорбент--полупроводник \glqq биографических\grqq электронных состояний (определяемых технологией изготовления и обработки образцов), плотность которых зависит от температурного режима получения SnO2-x.

PACS: 68.47.Fg, 68.35.Fx, 68.43.Pg

 PDF версия (184Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2008, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster