| Содержание | Предыдущая статья | Следующая статья | Поиск |
|---|
Характеристики туннелирования и ударной ионизации в тонкопленочных электролюминесцентных структурах на основе ZnS : Mn
Н.Т.Гурин, О.Ю.Сабитов, А.М.Афанасьев
Ульяновский государственный университет,
432970 Ульяновск, Россия
(Получена 11 декабря 2006 г. Принята к печати 25 января 2007 г.)
|
Предложена методика определения характеристик туннелирования и ударной ионизации в пленочных электролюминесцентных излучателях, позволяющая определить зависимости от времени толщины слоя объемного заряда в прианодной области и длины области ударной ионизации, уточнить зависимости от времени поля в области потенциального барьера на катодной границе раздела, максимальной глубины залегания поверхностных состояний, с которых осуществляется туннелирование электронов, минимальной толщины барьера, вероятности туннелирования электронов, а также коэффициента ударной ионизации глубоких центров, обусловленных собственными дефектами структуры слоя люминофора. PACS: 73.40.Gk, 73.40.Qv, 78.60.Fi |
| PDF версия (650Kb) | Другие выпуски | Другие журналы | Помощь |
|---|
| Copyright (C) 2007, Коллектив авторов Разработано... webmaster |