ФТП, 2003, том 37, выпуск 1

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Фазово-структурные превращения в пленках SiOx в процессе вакуумных термообработок

И.П.Лисовский, И.З.Индутный , Б.Н.Гненный, П.М.Литвин,
Д.О.Мазунов, А.С.Оберемок, Н.В.Сопинский, П.Е.Шепелявый

Институт физики полупроводников Национальной академии наук Украины,
03028 Киев, Украина

(Получена 25 марта 2002 г. Принята к печати 15 мая 2002 г.)

С использованием методов гравиметрии, инфракрасной спектроскопии, многоугловой эллипсометрии и микроскопии атомных сил проведено исследование термостимулированной трансформации структуры кремний-кислородной фазы в слоях SiOx, приводящей к образованию нановключений кремния. Показано, что вакуумная термообработка приводит к увеличению концентрации кислородных мостиков в структурной сетке окисла, окисел уплотняется, сглаживается рельеф его поверхности. Выделение фаз кремния и диоксида кремния происходит в результате процесса перехода кислорода от слабо окисленных молекулярных кластеров (SiOSi3) к сильно окисленным (SiO3Si). Анализ эллипсометрических данных в рамках модели эффективной среды позволил оценить доли выделившихся фаз кремния и диоксида кремния.

 PDF версия (662Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2003, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster