Влияние электронного облучения на скорость удаления носителей в кремнии и карбиде кремния модификации 4H
Козловский В.В.1, Емцев В.В.2, Емцев К.В.1, Строкан Н.Б.2, Иванов А.М.2, Ломасов В.Н.1, Оганесян Г.А.2, Лебедев А.А.2
1Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Санкт-Петербург, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 10 июля 2007 г.
Выставление онлайн: 20 января 2008 г.
Впервые проведено сравнение последовательного (до дозы 3· 1016 см-2) воздействия электронного облучения (с энергией 900 МэВ) на образцы, изготовленные из FZ-Si и 4H-SiC (CVD). Измерения на исходных и облученных образцах проводились по методу Ван-дер-Пау (для кремния) и вольтъемкостным методом на частоте 1 кГц (для карбида кремния). Дополнительно, в случае SiC, спектр вводимых уровней дефектов контролировался методом DLTS. Были определены величины скорости удаления носителей и скорости введения дефектов для двух материалов. Было установлено, что скорости введения дефектов в FZ-Si и в 4H-SiC (CVD) близки между собой (~0.1 см-1), что в значительной мере определяется близкими пороговыми энергиями возникновения дефектов. PACS: 61.82.Fk, 61.80.-x
- B.G. Svensson, A. Hallen, M.K. Linnarsson, A.Yu. Kuznetsov, M.S. Janson, D. Aberg, J. Osterman, P.O. Persson, L. Hultman, L. Storasta, F.H.C. Carlsson, J.P. Bergman, C. Jagadish, E. Morvan. Mater. Sci. Forum, 353--356, 549 (2001)
- V. Kozlovski, V. Abrosimova. Radiation Defect Engineering (Singapore, World Scientific, 2005)
- A.C. Ahyi, S.R. Wang, J.R. Williams. Mater. Sci. Forum, 527--529, 1063 (2006)
- G.D. Watkins, J.W. Corbett. Phys. Rev. A. 134, 1359 (1964)
- E.L. Elkin, G.D. Watkins. Phys. Rev., 174, 881 (1968)
- J.W. Corbett, G.D. Watkins. Phys. Rev. A, 138, 555 (1965)
- G.D. Watkins, J.W. Corbett. Phys. Rev., 121, 1001 (1961)
- C.T. Sah, W.G.K. Reddi. IEEE Trans. Electron. Dev., ED-11, 345 (1964)
- А. Милнс. Примеси с глубокими уровнями в полупроводниках (М., Мир, 1977)
- L.S. Berman. Purity control of semiconductors by the method of capacitance transient spectroscopy (St. Petersburg, Electronic Integral Systems, 1995)
- А.А. Лебедев, В.В. Козловский, Н.Б. Строкан, Д.В. Давыдов, А.М. Иванов, А.М. Стрельчук, Р. Якимова. ФТП, 36 (11), 1354 (2002)
- Н.Б. Строкан, А.М. Иванов, А.А. Лебедев. ФТП, 38 (2), 129 (2004)
- A. Castaldini, A. Cavallini, L. Rigutti, F. Nava. Appl. Phys. Lett., 85, 3780 (2004)
- A. Castaldini, A. Cavallini, L. Rigutti, F. Nava, S. Ferrero, F. Giorgis. J. Appl. Phys., 98, 053 706 (2005).
- G. Alfieri, E.V. Monakov, M.K. Linnarsson, B.G. Svensson. Mater. Sci. Forum, 483--485, 365 (2005)
- В.В. Козловский. Модифицирование полупроводников пучками протонов (СПб., Наука, 2003)
- J.W. Steeds, F. Carosella, G.A. Evans, M.M. Ismail, L.R. Danks, W. Voegeli. Mater. Sci. Forum, 353--356, 381 (2001)
- J.W. Steeds, G.A. Evans. S. Furkert, M.M. Ismail, L.R. Danks, W. Voegeli, F. Carosella. Diamond Relat. Mater., 11, 1923 (2002)
- J.W. Corbett, J.C. Bourgoin. In: Point Defects in Solids. Vol. 2, Semiconductors and Molecular Crystals, ed by J.H. Crawford, L.M. Slifkin (London, N.Y., Plenum Press, 1975) p. 84. [Перевод: Дж. Корбетт, Ж. Бургуэн. В сб.: Точечные дефекты в твердых телах. Перевод под ред. Б.И. Болтакса, Т.В. Машовец, А.Н. Орлова (М., Мир, 1979) с. 95.]
- В.В. Емцев, Т.В. Машовец. Примеси и точечные дефекты в полупроводниках (М., Радио и связь, 1981)
- W.J. Weber, L.K. Mansur. F.W. Clinard, D.M. Parkin. J. Nucl. Mater., 184 (1), 1 (1991)
- D. Aberg, A. Hallen, P. Pellegrino, B.G. Swensson. Appl. Phys., Lett., 78, 2908 (2001)
- A.A. Lebedev, A.I. Veinger, V.V. Kozlovski, D.V. Davydov, N.S. Savkina, A.M. Strelchuk. J. Appl. Phys., 88 (11), 6265 (2000)
- V.V. Kozlovski, E.V. Bogdanova, V.V. Emtsev, K.V. Emtsev, A.A. Lebedev, V.N. Lomasov. Mater. Sci. Forum., 483--485, 385 (2005)
- Е.В. Калинина. ФТП, 41 (7). 769 (2007).
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.