Вышедшие номера
Структурные, электрические и оптические свойства 4H-SiC для ультрафиолетовых фотоприемников
Переводная версия: 10.1134/S1063782620120118
Калинина Е.В.1, Каташев А.А.1,2, Виолина Г.Н.2, Стрельчук А.М.1, Никитина И.П.1, Иванова Е.В.1, Забродский В.В.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
Email: Evk@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 3 августа 2020 г.
В окончательной редакции: 10 августа 2020 г.
Принята к печати: 10 августа 2020 г.
Выставление онлайн: 11 сентября 2020 г.

Представлены результаты исследования различными методиками исходных структур n-4H-SiC, представляющих высоколегированную n+-подложку с выращенным химическим осаждением из газовой фазы эпитаксиальным слоем толщиной 5 мкм. Концентрация носителей заряда в эпитаксиальном слое в диапазоне Nd-Na=(1-50)·1014 см-3. Привлекая результаты рентгеноструктурного анализа, было установлено, что для получения эффективных 4H-SiC ультрафиолетовых фотоприемников желательно иметь структуры эпитаксиальных слоев, в которых наблюдается эффект геттерирования точечных дефектов, что приводит к росту времени жизни носителей заряда и увеличению значений квантовой эффективности. Фоточувствительность исследованных образцов значительно зависит от степени дефектности в CVD эпитаксиальном слое, приводящей к изменению времени жизни носителей заряда и, как следствие, к изменению квантовой эффективности 4H-SiC ультрафиолетовых фотоприемников. Ключевые слова: карбид кремния, рентгеноструктурный анализ, эффект геттерирования, квантовая эффективность.