Вышедшие номера
Влияние разупорядочения тонких поверхностных слоев на электронные и оптические свойства Si (111)
Переводная версия: 10.1134/S1063782620110263
Умирзаков Б.Е.1, Ташмухамедова Д.А.1, Ташатов А.К.2, Мустафоева Н.М.2, Муродкабилов Д.М.1
1Ташкентский государственный технический университет им. И.А. Каримова, Ташкент, Узбекистан
2Каршинский государственный университет, Карши, Узбекистан
Email: ftmet@mail.ru
Поступила в редакцию: 20 мая 2019 г.
В окончательной редакции: 13 июля 2020 г.
Принята к печати: 20 июля 2020 г.
Выставление онлайн: 7 августа 2020 г.

Впервые изучены степень разупорядочения, толщина разупорядоченных слоев d и их влияние на ширину запрещенной зоны Eg монокристаллического Si (111) при бомбардировке ионами Ar+. Показано, что значение d при энергиях ионов E0=1 и 2 кэВ составляет ~(100-120) и ~(150-160) Angstrem соответственно. При этом плотность состояний электронов валентной зоны Si (111) существенно изменяется, уменьшается коэффициент пропускания света до K= 55-60%, а значение Eg увеличивается на ~10%. При бомбардировке ионами Ni+ разупорядочение поверхности сопровождается резким изменением состава поверхностных слоев и вследствие этого K уменьшается до 5-10%. После прогрева при T=900 K формируются нанокристаллы (при дозах D≤1015 см-2) и нанопленки NiSi2 (D=6·1016 см-2). Ключевые слова: ионная бомбардировка Si, электронные свойства, оптические свойства, тонкие слои, отжиг.
  1. S. Schuppler, S.L. Friedman, M.A. Marcus, D.L. Adler, Y.-H. Xie, F.M. Ross, T.D. Harris, W.L. Brown, Y.J. Chabal, L.E. Brus, P.H. Citrin. Phys. Rev. Lett.,  72, 2648 (1994)
  2. S. Horiguchi, M. Nagase, K. Shiraishi, H. Kageshima, Y. Takahashi, K. Murase. Jpn. J. Appl. Phys., 40, L29 (2001). https://doi.org/10.1143/JJAP.40.L29
  3. S.H. Tolbert, A.B. Herhold, L.E. Brus, A.P. Alivisatos. Phys. Rev. Lett.,  76, 4384 (1996)
  4. L.T. Canham. Appl. Phys. Lett., 57, 1046 (1990)
  5. K. Masuko, M. Shigematsu, T. Hashiguchi, D. Fujishima, M. Kai, N. Yoshimura, T. Yamaguchi, Y. Ichihashi, T. Mishima, N. Matsubara,  T. Yamanishi, T. Takahama, M. Taguchi, E. Maruyama, S. Okamoto. IEEE J. Photovoltaics, 4 (6), 1433 (2014)
  6. X. Li, S. He, S.S. Talukdar. Langmuir, 19, 8490 (2003)
  7. A. Puzder, A.J. Williamson, J.C. Grossman, G. Galli. Phys. Rev. Lett., 88 (9), 097401 (2002)
  8. М.С. Браслер, О.В. Гусев, Е.И. Теруков, A. Froitzheim, W. Fuhs. ФТТ, 46, 18 (2004)
  9. C. Buerhop, S. Wirsching, S. Gehre, T. Pickel, T. Winkler, A. Bemm, J. Mergheim, C. Camus, J. Hauch, C.J. Brabec. Proc. 2017 IEEE 44th Photovoltaic Spec. Conf., p. 3500
  10. P. Procel, G. Yang, O. Isabella, M. Zeman. Solar Energy Mater. Solar Cells, 186, 66 (2018)
  11. И.А. Карпович, С.В. Тихов, Е.Л. Шоболов, И.А. Андрющенко. ФТП, 40 (3), 319 (2006)
  12. M.W. Ullah, A. Kuronen, K. Nordlund, F. Djurabekova,  P.A. Karaseov, K.V. Karabeshkin, A.I. Titov. J. Appl. Phys., 114, 183511 (2013)
  13. B.E. Umirzakov, D.A. Tashmukhamedova, E.U. Boltaev, A.A. Dzhurakhalov. Mater. Sci. Eng. B, 101, 124 (2003)
  14. S.B. Donaev, F. Djurabekova, D.A. Tashmukhamedova,  B.E. Umirzakov. Phys. Status Solidi C, 12 (1--2), 89 (2015). DOI 10.1002/pssc.201400156
  15. B.E. Umirzakov, D.A. Tashmukhamedova, M.K. Ruzibaeva,  F.G. Djurabekova, S.B. Danaev. NIMB, 326, 322 (2014)
  16. Б.Е. Умирзаков, Д.А. Ташмухамедова, Г.Х. Аллаярова, Ж.Ш. Содикжанов. Письма ЖТФ, 45 (7), 49 (2019). [Techn. Phys. Lett., 45 (4), 356 (2019)]
  17. П.Г. Петросян, Л.Н. Григорян. ЖТФ, 87 (3), 443 (2017)
  18. Д.М. Седракян, П.Г. Петросян, Л.Н. Григорян. ЖТФ, 85 (5), 94 (2015)
  19. И.М. Бронштейн, Б.С. Фрайман. Вторичная электронная эмиссия (М., Наука, 1969) с. 170-175, 244-246

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.