Теоретический анализ профилей состава в осевых гетероструктурах на основе нитевидных нанокристаллов AlGaAs
St. Petersburg State University, Research grant, 116524353
Дубровский В.Г.1, Микушев С.В.1, Штром И.В.1,2
1Санкт-Петербургский государственный университет, Санкт-Петербург, Россия
2Институт аналитического приборостроения Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия

Email: i.shtorm@spbu.ru
Поступила в редакцию: 20 марта 2026 г.
В окончательной редакции: 20 марта 2026 г.
Принята к печати: 18 апреля 2026 г.
Выставление онлайн: 1 июня 2026 г.
Проведен анализ профилей состава в осевых гетероструктурах нитевидных нанокристаллов (ННК) GaAs/AlxGa1-xAs/GaAs и AlxGa1-xAs/GaAs/AlxGa1-xAs. Различие состоит в типе катализатора (Ga или Au), а также в материале, с которого начинается рост гетероструктуры (ННК GaAs или ННК AlxGa1-xAs тройного состава). Рассчитаны профили состава и показано, что использование Au значительно увеличивает размытие гетероинтерфейса за счет эффекта резервуара. Данный эффект подтверждается экспериментально. Ключевые слова: полупроводниковые нитевидные нанокристаллы AlGaAs, осевые гетероструктуры, профили состава, моделирование.
- P.C. McIntyre, A. Fontcuberta i Morral, Mater. Today Nano, 9, 100058 (2020). DOI: 10.1016/j.mtnano.2019.100058
- G. Boras, X. Yu, H. Liu, J. Semicond., 40, 101301 (2019). DOI: 10.1088/1674-4926/40/10/101301
- J.K. Hyun, S. Zhang, L.J. Lauhon, Annu. Rev. Mater. Res., 43, 451 (2013). DOI: 10.1146/annurev-matsci-071312-121659
- V.G. Dubrovskii, J. Phys. D, 50, 453001 (2017). DOI: 10.1088/1361-6463/aa87a7
- M. Ghasemi, E.D. Leshchenko, J. Johansson, Nanotechnology, 32, 072001 (2020). DOI: 10.1088/1361-6528/abc3e2
- E.D. Leshchenko, N.V. Sibirev, Nanomaterials, 14, 1816 (2024). DOI: 10.3390/nano14221816
- V.G. Dubrovskii, F. Glas, in Fundamental properties of semiconductor nanowires, ed. by N. Fukata, R. Rurali (Springer, Singapore, 2020), p. 3--107. DOI: 10.1007/978-981-15-9050-4_1
- V.G. Dubrovskii, I.V. Shtrom, R.R. Reznik, Yu.B. Samsonenko, A.I. Khrebtov, I.P. Soshnikov, S. Rouvimov, N. Akopian, T. Kasama, G.E. Cirlin, Cryst. Growth Des., 16, 7251 (2016). DOI: 10.1021/acs.cgd.6b01412
- L. Leandro, C.P. Gunnarsson, R. Reznik, K.D. Jons, I. Shtrom, A. Khrebtov, T. Kasama, V. Zwiller, G. Cirlin, N. Akopian, Nano Lett., 18, 7217 (2018). DOI: 10.1021/acs.nanolett.8b03363
- L. Leandro, J. Hastrup, R. Reznik, G. Cirlin, N. Akopian, npj Quantum Inform., 6, 93 (2020). DOI: 10.1038/s41534-020-00323-9
- D. Barettin, I.V. Shtrom, R.R. Reznik, S.V. Mikushev, G.E. Cirlin, M. Auf der Maur, N. Akopian, Nano Lett., 23, 895 (2023). DOI: 10.1021/acs.nanolett.2c04184
- G. Priante, F. Glas, G. Patriarche, K. Pantzas, F. Oehler, J.C. Harmand, Nano Lett., 16, 1917 (2016). DOI: 10.1021/acs.nanolett.5b05121
- G. Boras, X. Yu, H. Aruni Fonseka, G. Davis, A.V. Velichko, J.A. Gott, H. Zeng, S. Wu, P. Parkinson, X. Xu, D. Mowbray, A.M. Sanchez, H. Liu, J. Phys. Chem. C, 125, 14338 (2021). DOI: 10.1021/acs.jpcc.1c03680
- G. Boras, H. Zeng, S. Church, R. Juluri, A. Velichko, H. Deng, H. Jia, F. Alvarado, Z. Yin, C. Chen, J. Park, M. Tang, D. Mowbray, A.M. Sanchez, P. Parkinson, H. Liu, Adv. Mater. Interfaces, 13, e00938 (2026). DOI: 10.1002/admi.202500938
- F. Glas, Cryst. Growth Des., 17, 4785 (2017). DOI: 10.1021/acs.cgd.7b00732
- V.G. Dubrovskii, A.A. Koryakin, N.V. Sibirev, Mater. Des., 132, 400 (2017). DOI: 10.1016/j.matdes.2017.07.012
- J. Johansson, M. Ghasemi, Phys. Rev. Mater., 1, 040401(R) (2017). DOI: 10.1103/PhysRevMaterials.1.040401
- V.G. Dubrovskii, Phys. Rev. Mater., 7, 096001 (2023). DOI: 10.1103/PhysRevMaterials.7.096001
- V.G. Dubrovskii, Phys. Rev. Mater., 8, 076003 (2024). DOI: 10.1103/PhysRevMaterials.8.076003