Исследован процесс химического газофазного осаждения тонких пленок оксида алюминия с использованием изопропилата алюминия в качестве прекурсора. Определены параметры осаждения, обеспечивающие высокую скорость роста покрытия (до ~ 0.94 μm/min). Установлено, что полученные покрытия имеют аморфную структуру, а их последующий отжиг при 1200 ^oC приводит к кристаллизации с формированием фаз α-Al₂O₃, kappa-Al₂O₃ и γ-Al₂O₃. Показано, что использование изопропилата алюминия позволяет получать покрытия высокой чистоты при относительно низких температурах осаждения. Ключевые слова: химическое газофазное осаждение, тонкие пленки, оксид алюминия, термостойкость, термобарьерные покрытия.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.