Вышедшие номера
Устойчивость органосиликатных low-k диэлектриков с бензольными мостиками к воздействию вакуумного ультрафиолетового излучения плазмы в процессе нанесения Ta барьерного покрытия
Исследование выполнено за счет гранта Российского научного фонда, 22-29-00763
Паль А.Ф. 1, Рябинкин А.Н. 1, Серов А.О. 1, Рахимова Т.В. 1, Вишневский А.С. 2, Серегин Д.С. 2, Воротилов К.А. 2, Бакланов М.Р. 2
1Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына Московского государственного университета им. М.В. Ломоносова, Москва, Россия
2МИРЭА - Российский технологический университет, Москва, Россия
Email: apal@mics.msu.su, alex.ryabinkin@gmail.com, aloleserov@yandex.ru, TRakhimova@mics.msu.su, vishnevskiy@mirea.ru, d_seregin@mirea.ru, vorotilov@mirea.ru, baklanovmr@gmail.com
Поступила в редакцию: 29 августа 2023 г.
В окончательной редакции: 9 ноября 2023 г.
Принята к печати: 16 ноября 2023 г.
Выставление онлайн: 31 января 2024 г.

Исследована устойчивость периодических мезопористых органосиликатных low-k диэлектриков с бензольными мостиками к воздействию вакуумного ультрафиолетового (ВУФ) излучения плазмы при осаждении танталовых барьерных покрытий методом магнетронного распыления с дополнительной ионизацией индукционным высокочастотным разрядом. Обнаружена корреляция состава и особенностей пористой структуры образцов с их гидрофобностью и устойчивостью к ВУФ излучению. Ключевые слова: low-k диэлектрики, ВУФ, барьерные слои, PVD.