Письма в журнал технической физики
Авторам
Вышедшие номера
- 2024
- 2023
- 2022
- 2021
- 2020
- 2019
- 2018
- 2017
- 2016
- 2015
- 2014
- 2013
- 2012
- 2011
- 2010
- 2009
- 2008
- 2007
- 2006
- 2005
- 2004
- 2003
- 2002
- 2001
- 2000
- 1999
- 1998
- 1997
- 1996
- 1995
- 1994
- 1993
- 1992
- 1991
- 1990
- 1989
- 1988
Моделирование процесса реактивного магнетронного распыления металлической (ванадиевой) мишени в высокомощном импульсном режиме
1Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия 
Email: dakudryavtseva@stud.etu.ru
Поступила в редакцию: 21 сентября 2023 г.
В окончательной редакции: 25 октября 2023 г.
Принята к печати: 1 ноября 2023 г.
Выставление онлайн: 6 января 2024 г.
Представлена физико-химическая модель, описывающая процесс высокомощного импульсного реактивного магнетронного распыления металлической мишени. Повышение импульсной плотности мощности на мишени способствует ее разогреву, что приводит к увеличению эффективности распыления и возникновению потока испаренного вещества. Совокупность указанных эффектов приводит к увеличению скорости осаждения пленок сложных соединений. Приведены результаты моделирования процесса распыления ванадиевой мишени в среде Ar + O2, продемонстрировавшие увеличение скорости распыления в 8.5 раз при увеличении плотности мощности от 0.5 до 1.5 kW/cm2. Ключевые слова: реактивное магнетронное распыление, HiPIMS, неизотермическая модель, диоксид ванадия.
- G. Greczynski, L. Hultman, Vacuum, 124, 1 (2016). DOI: 10.1016/j.vacuum.2015.11.004
- H. Zhang, J.S. Cherng, Q. Chen, AIP Adv., 9 (3), 035242 (2019). DOI: 10.1063/1.5084031
- J. Vlvcek, D. Kolenaty, J. Houvska, T. Kozak, R. vCerstvy, J. Phys. D: Appl. Phys., 50 (38), 38LT01 (2017). DOI: 10.1088/1361-6463/aa8356
- A.A. Barybin, V.I. Shapovalov, J. Appl. Phys., 101 (5), 054905 (2007). DOI: 10.1063/1.2435795
- V.V. Karzin, A.E. Komlev, K.I. Karapets, N.K. Lebedev, Surf. Coat. Technol., 334, 269 (2018). DOI: 10.1016/j.surfcoat.2017.11.049
- V.I. Shapovalov, V.V. Karzin, A.S. Bondarenko, Phys. Lett. A, 381 (5), 472 (2017). DOI: 10.1016/j.physleta.2016.11.028
- S. Dushman, Scientific foundations of vacuum technique (John Wiley and Sons, Inc, N.Y.-London, 1962), p. 745. DOI: 10.1021/ed039pA606
- К.Е. Францева, Г.А. Семенов, ТВТ, 7 (1), 55 (1969)
- J. Holzl, F. Schulte, in Solid surface physics. Springer Tracts in Modern Physics (Springer, Berlin-Heidelberg, 1979), vol. 85, p. 1-150. DOI: 10.1007/BFb0048919
- C. Ko, Z. Yang, S. Ramanathan, ACS Appl. Mater. Interfaces, 3 (9), 3396 (2011). DOI: 10.1021/am2006299
- J.A. Theil, E. Kusano, A. Rockett, Thin Solid Films, 298 (1-2), 122 (1997). DOI: 10.1016/S0040-6090(96)09147-X
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
