Вышедшие номера
Грибовидная меза-структура для лавинных фотодиодов на гетероструктурах InAlAs/InGaAs
Ministry of Science and Higher Education of the Russian Federation, 2019-1442
Малеев Н.А. 1,2, Кузьменков А.Г. 3, Кулагина М.М. 1, Васильев А.П. 3, Блохин С.А. 1,2, Трошков С.И. 1, Нащекин А.В. 1, Бобров М.А. 1, Блохин А.А. 1, Воропаев К.О.4, Бугров В.Е. 2, Устинов В.М. 3
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Университет ИТМО, Санкт-Петербург, Россия
3Научно-технологический центр микроэлектроники и субмикронных гетероструктур Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
4АО «ОКБ-Планета», Великий Новгород, Россия
Email: maleev@beam.ioffe.ru, kuzmenkov@mail.ioffe.ru, marina.kulagina@mail.ioffe.ru, vasiljev@mail.ioffe.ru, blokh@mail.ioffe.ru, S.Troshkov@mail.ioffe.ru, Nashchekin@mail.ioffe.ru, bobrov.mikh@gmail.com, bloalex91@yandex.ru, voropaevko@okbplaneta.ru, vladislav.bougrov@niuitmo.ru, vmust@beam.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 28 июня 2021 г.
В окончательной редакции: 28 июня 2021 г.
Принята к печати: 19 июля 2021 г.
Выставление онлайн: 27 августа 2021 г.

Предложен и исследован вариант грибовидной конструкции меза-структуры для лавинных фотодиодов на основе InAlAs/InGaAs, формируемой с использованием селективного травления. Гетероструктуры для лавинных фотодиодов выращивались методом молекулярно-пучковой эпитаксии. Изготовленные образцы тестовых лавинных фотодиодов с диаметром фоточувствительной области ~ 30 μm после пассивации поверхности слоем SiN демонстрируют пробивные напряжения в диапазоне 70-80 V, уровень темновых токов 75-200 nA при величине приложенного напряжения 90% от пробивного и величину фотоотклика в линейном режиме более 0.5 A/W при стыковке с одномодовым волокном.