Вышедшие номера
Влияние облучения ионами H+ и Ne+ на резистивное переключение в мемристивных структурах "металл-диэлектрик-металл" на основе SiOx
Белов А.И.1, Михайлов А.Н.1, Королев Д.С.1, Сергеев В.А.1, Окулич Е.В.1, Антонов И.Н.1, Касаткин А.П.1, Грязнов Е.Г.1,2, Ятманов А.П.2, Горшков О.Н.1, Тетельбаум Д.И.1
1Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
2Научно-исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова, Нижний Новгород
Email: tetelbaum@phys.unn.ru
Поступила в редакцию: 5 мая 2015 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2015 г.

Для мемристивных структур Au/SiOx/TiN/Ti, полученных методом магнетронного распыления и проявляющих воспроизводимый эффект резистивного переключения, изучено воздействие облучения ионами H+ и Ne+ с энергией 150 keV. Показано, что при облучении H+ состояния с низким и высоким сопротивлением не меняются до дозы 1· 1016 cm-2, а в случае облучения ионами Ne+ - до дозы ~ 3· 1015 cm-2. Полученные результаты демонстрируют высокую стойкость параметров исследуемых мемристивных структур как к ионизирующему, так и к дефектообразующему радиационному воздействию.