Вышедшие номера
Монокристаллические слои GaN/AlN на CVD-алмазе
Хрыкин О.И.1, Дроздов Ю.Н.1, Дроздов М.Н.1, Юнин П.А.1,2, Шашкин В.И.1, Богданов С.А.3, Мучников А.Б.3, Вихарев А.Л.3, Радищев Д.Б.3
1Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
2Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
3Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
Email: mab1@appl.sci-nnov.ru
Поступила в редакцию: 5 мая 2015 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2015 г.

Предложен и экспериментально реализован оригинальный подход по созданию структуры GaN/AlN/нанокристаллический алмаз. Этапы создания такой структуры включают в себя: a - выращивание нанокристаллического CVD-алмаза на монокристаллическом AlN (предварительно выращенном на кремниевой подложке), b - стравливание кремниевой подложки и c - выращивание монокристаллического GaN на поверхности монокристаллического AlN. На подложке из нанокристаллического алмаза получен монокристаллический нитрид галлия с шириной рентгенодифракционной кривой качания отражения (0002) 0.35o.