Вышедшие номера
Выращивание монокристаллов твердого раствора Si1-xGex(0<x<0.35) и исследование их свойств
Атабаев И.Г.1,2,3, Матчанов Н.А.1,2,3, Хажиев М.У.1,2,3, Юсупова Ш.А.1,2,3
1Физико-технический институт НПО ”Физика−Солнце“ Академии наук Республики Узбекистан, Ташкент, Узбекистан
2Department of Electrical and Computer Engineering, Michigan State University, East Lansing, USA
3Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: sh.yusupova@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 21 сентября 2009 г.
Выставление онлайн: 20 января 2010 г.

Методом бестигельной зонной плавки выращены монокристаллы Si1-xGex диаметром 10 mm и длиной до 10 cm с содержанием германия до 35 at. %, характеризующиеся однородным распределением Ge и низкой плотностью дислокаций. Исследованы структурные и электрофизические свойства полученного материала. Определены значения удельного объемного сопротивления, времени жизни, подвижности и концентрации носителей заряда в монокристаллах Si1-xGex в зависимости от содержания Ge.