Эллипсометрическое исследование релаксационных изменений оптических констант и степени неоднородности тонких пленок стеклообразного As2S3
Козак М.И.1,2, Жихарев В.Н.1,2, Лоя В.Ю.1,2, Студеняк И.П.1,2, Шпак И.И.1,2, Турок И.И.1,2
1Ужгородский национальный университет, Украина
2Институт электронной физики НАН Украины
Email: mirko@tn.uz.ua
Поступила в редакцию: 11 января 2006 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2006 г.
Определялись оптические константы тонких пленок толщиной ~2 mum, полученных термическим напылением в вакууме халькогенидного стекла As2S3, из эллипсометрических многоугловых измерений на длине волны He-Ne лазера lambda=0.6328 mum с учетом слабого поглощения, свойственного им в этой области спектра. Показаны релаксационные изменения оптических констант как свеженапыленных неотожженных, так и отожженных пленок этого состава, а также рассмотрена возможность качественной оценки их степени неоднородности, изменяющейся в процессе релаксационных структурных преобразований или воздействия других факторов. PACS: 78.20.-e, 81.40.Tv
- Шварц К.К. Физика оптической записи в диэлектриках и полупроводниках. Рига: Зинатне, 1986
- Аззам Р., Башара Н. Эллипсометрия и поляризованный свет. М.: Мир, 1981
- Kozak M.I., Shpak I.I., Studenyak I.P. et al. // Materials on 2nd Intern. Workshop "Relaxed, nonlinear and acoustic optical processes; materials --- growth and optical properties". Lutsk: Veza, 2005. P. 43--45
- Аморфные полупроводники и приборы на их основе / Под ред. Й. Хамакавы. М.: Металлургия, 1986
- Franta D., Ohlidal I., Frumar M. et al. // Chalcogen. Let. 2004. V. 1. N 1
- Todorov R., Petkov K. // J. Opt. Advan. Mater. 2001. V. 3. N 2. P. 311--317
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2025 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
