Методами рентгеноструктурного и магнитного фазового анализа исследованы полиморфные железоникелевые пленки толщиной от 0.1 до 1.3 mum, содержащие 25-30% никеля, сконденсированные методом термического испарения в вакуумной установке с турбомолекулярным способом откачки. Установлена зависимость кристаллографической устойчивости ГЦК-структуры пленок в зависимости от их толщины в интервале температур от 70 до -196^oC; сделано предположение, что подобная зависимость может определяться дефектами кристаллической решетки, плотность которых пропорциональна толщине пленок и размерам кристаллов. Выявлено, что тип подложки не влияет на область температур устойчивого состояния кристаллографических модификаций исследуемых образцов. На основании полученных результатов следует определять химический состав и толщину железоникелевых фрагментов рабочего слоя термогальванических носителей информации в широкой области температур их эксплуатации.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.