Углеродные нанотрубки (УНТ) синтезированы на кремниевых подложках методом плазменно-усиленного химического осаждения из паровой фазы (PECVD) с использованием тонкого слоя Fe-катализатора. Исследовано влияние ориентации подложек Si(100) и Si(111), а также толщины буферного слоя SiO₂ (120-165 nm). Установлено, что диаметр УНТ в основном определяется исходной толщиной катализатора и слабо зависит от параметров подложки (средний диаметр УНТ составил 18.7-19.1 nm для всех образцов). При более толстом слое SiO₂ и использовании подложки Si(100) катализатор распределяется равномерно и стабильно, что обеспечивает плотный и однородный рост УНТ. Анализ методом сканирующей электронной микроскопии показал однородность морфологии, а рамановская спектроскопия для образца Si(100)/SiO₂ (160 nm) выявила высокий уровень графитизации с низким отношением I_D/I_G~ 0.92 (I_D/I_G - отношение интенсивностей D- и G-полос, характеризующее степень дефектности углеродных нанотрубок). На образце Si(111)/SiO₂ (165 nm) I_D/I_G~ 1.09, а на Si(100)/SiO₂ (120 nm) I_D/I_G~ 1.48. В условиях низкотемпературного PECVD качество УНТ определяется прежде всего формированием и стабильностью наночастиц Fe-катализатора. Ключевые слова: углеродные нанотрубки, PECVD, низкотемпературный рост, толщина SiO₂, ориентация подложки, каталитические наночастицы, комбинационное рассеяние света.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.