Шумовая спектроскопия тока в ультрафиолетовых светодиодах на основе InGaN/GaN-структур с квантовыми ямами
Иванов А.М.
1, Клочков А.В.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия

Email: alexandr.ivanov@mail.ioffe.ru, alex.klo@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 10 октября 2025 г.
В окончательной редакции: 10 октября 2025 г.
Принята к печати: 29 ноября 2025 г.
Выставление онлайн: 30 января 2026 г.
Спектральная плотность низкочастотного токового шума резко возрастает и меняет характер зависимости от частоты при понижении температуры ниже 150 K, вплоть до температуры жидкого азота. Объяснения предложены на основе изменений в механизмах транспорта носителей и возрастания роли безызлучательной рекомбинации. Ключевые слова: низкочастотный токовый шум, квантовые ямы, туннельное сопротивление.
- Z. Peng, W. Guo, T. Wu, Z. Guo, Y. Lu, Y. Zheng, Y. Lin, Z. Chen, IEEE Photon. J., 12 (1), 8200108 (2020). DOI: 10.1109/JPHOT.2019.2958311
- P. Tian, J.J.D. McKendry, J. Herrnsdorf, S. Watson, R. Ferreira, I.M. Watson, E. Gu, A.E. Kelly, M.D. Dawson, Appl. Phys. Lett., 105 (17), 171107 (2014). DOI: 10.1063/1.4900865
- S. Marcinkevicius, R. Yapparov, L.Y. Kuritzky, Y-R. Wu, S. Nakamura, J.S. Speck, Phys. Rev. B, 101, 075305 (2020). DOI: 10.1103/PhysRevB.101.075305
- D.S. Arteev, A.V. Sakharov, A.E. Nikolaev, W.V. Lundin, A.F. Tsatsulnikov, J. Lumin., 234, 117957 (2021). DOI: 10.1016/j.jlumin.2021.117957
- M.L. Lee, P.S. Hsieh, C.S. Chen, H.Z. Zhang, P.Y. Chen, C.Y. Yang, M.J. Wu, C.F. Lin, H.W. Hsu, M.Y. Kuo, H. Chen, J. Mater Sci.: Mater. Electron., 32, 28287 (2021). DOI: 10.1007/s10854-021-07205-6
- А.С. Павлюченко, И.В. Рожанский, Д.А. Закгейм, ФТП, 43 (10), 1391 (2009). [A.S. Pavluchenko, I.V. Rozhansky, D.A. Zakheim, Semiconductors, 43 (10), 1351 (2009). DOI: 10.1134/S1063782609100170]
- L. Wan, X. Shao, Y. Ma, S. Deng, Y. Liu, J. Chen, Y. Gu, T. Li, X. Li, Infrared Phys. Technol., 109, 103389 (2020). DOI: 10.1016/j.infrared.2020.103389
- J. Glemvza, S. Pralgauskaite, V. Palenskis, J. Matukas, Lith. J. Phys., 59 (3), 146 (2019). DOI: 10.3952/physics.v59i3.4081
- B. Saulys, J. Matukas, V. Palenskis, S. Pralgauskaite, G. Kulikauskas, Acta Phys. Pol. A, 119 (4), 514 (2011). DOI: 10.12693/APhysPolA.119.514
- А.М. Иванов, А.В. Клочков, ФТП, 56 (6), 596 (2022). DOI: 10.21883/FTP.2022.06.52596.9817 [A.M. Ivanov, A.V. Klochkov, Semiconductors, 56 (6), 431 (2022). DOI: 10.21883/SC.2022.06.53546.9817]
- A.M. Ivanov, G.V. Nenashev, A.N. Aleshin, J. Mater Sci.: Mater. Electron., 33, 21666 (2022). DOI: 10.1007/s10854-022-08955-7
- J. Glemvza, J. Matukas, S. Pralgauskaite, V. Palenskis, Lith. J. Phys., 58 (2), 194 (2018). DOI: 10.3952/physics.v58i2.3749
- A.M. Ivanov, A.V. Klochkov, J. Phys.: Conf. Ser., 2103, 012189 (2021). DOI: 10.1088/1742-6596/2103/1/012189
- Н.И. Бочкарева, В.В. Вороненков, Р.И. Горбунов, М.В. Вирко, В.С. Коготков, А.А. Леонидов, П.Н. Воронцов-Вельяминов, И.А. Шеремет, Ю.Г. Шретер, ФТП, 51 (9), 1235 (2017). DOI: 10.21883/FTP.2017.09.44888.8528 [N.I. Bochkareva, V.V. Voronenkov, R.I. Gorbunov, M.V. Virko, V.S. Kogotkov, A.A. Leonidov, P.N. Vorontsov-Velyaminov, I.A. Sheremet, Yu.G. Shreter, Semiconductors, 51 (9), 1186 (2017). DOI: 10.1134/S1063782617090068]
- Н.И. Солин, С.В. Наумов, ФТТ, 45 (3), 460 (2003). [N.I. Solin, S.V. Naumov, Phys. Solid State, 45 (3), 486 (2003). DOI: 10.1134/1.1562235]
- Н.И. Бочкарева, Ю.Т. Ребане, Ю.Г. Шретер, ФТП, 49 (12), 1714 (2015). [N.I. Bochkareva, Yu.T. Rebane, Yu.G. Shreter, Semiconductors, 49 (12), 1665 (2015). DOI: 10.1134/S1063782615120040]
- J. Liu, W.S. Tam, H. Wong, V. Filip, Microelectron. Reliab., 49 (1), 38 (2009). DOI: 10.1016/j.microrel.2008.10.002
- Q. Lv, J. Gao, X. Tao, J. Zhang, C. Mo, X. Wang, C. Zheng, J. Liu, J. Lumin., 222, 117186 (2020). DOI: 10.1016/j.jlumin.2020.117186
- M. Buffolo, A. Caria, F. Piva, N. Roccato, C. Casu, C. De Santi, N. Trivellin, G. Meneghesso, E. Zanoni, M. Meneghini, Phys. Status Solidi A, 219, 2100727 (2022). DOI: 10.1002/pssa.202100727
- S. Pralgauskaite, V. Palenskis, J. Matukas, J. Glemvza, G. Muliuk, B. vSaulys, AA. Trink\=unas, Microelectron. Reliab., 55 (1), 52 (2015). DOI: 10.1016/j.microrel.2014.09.027