Вышедшие номера
Home » Письма в журнал технической физики » Год 2026, выпуск 6 » Статья стр. 7
<<<>>>
In situ исследование кинетики кристаллизации покрытий Al2O3, осажденных из изопропилата алюминия, при термическом отжиге
Российский научный фонд, 25-22-20028
Департамент по научно-технологическому развитию и инновационной деятельности Томской области, 25-22-20028
Митулинский А.С.1, Гайдайчук А.В.1, Зенкин С.П.1, Пирожков А.В.1, Линник С.А.1
1Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Томск, Россия
Email: mitulinsky@tpu.ru
Поступила в редакцию: 19 сентября 2025 г.
В окончательной редакции: 29 октября 2025 г.
Принята к печати: 18 ноября 2025 г.
Выставление онлайн: 30 января 2026 г.
PDF версия
Оксид алюминия существует в нескольких полиморфных модификациях, каждая из которых определяет набор свойств, важных для защитных, термобарьерных и диэлектрических покрытий. Исследована температурная эволюция фазового состава и микроструктуры CVD-покрытий Al2O3, осажденных из изопропилата алюминия, при отжиге до 1200 oC, и проведено сопоставление данных рентгенофазового анализа и электронной микроскопии для выяснения механизмов кристаллизации и формирования различных полиморфных модификаций Al2O3. Ключевые слова: химическое газофазное осаждение, тонкие пленки, оксид алюминия, корунд, термостойкость.
  1. F. Konstantiniuk, M. Tkadletz, C. Kainz, C. Czettl, N. Schalk, Surf. Coat. Technol., 410, 126959 (2021). DOI: 10.1016/j.surfcoat.2021.126959
  2. F. Shao, Y. Zhuang, J. Ni, J. Sheng, H. Zhao, S. Tao, K. Yang, Surf. Coat. Technol., 422, 127530 (2021). DOI: 10.1016/j.surfcoat.2021.127530
  3. L. Aarik, H. Mandar, P. Ritslaid, A. Tarre, J. Kozlova, J. Aarik, Cryst. Growth Des., 21 (7), 4220 (2021). DOI: 10.1021/acs.cgd.1c00471
  4. T. Maruyama, S. Arai, Appl. Phys. Lett., 60, 322 (1992). DOI: 10.1063/1.106699
  5. J.V. Swarup, H.-R. Chuang, J.T. Jensen, J. Gao, A.L. You, J.R. Engstrom, J. Vac. Sci. Technol. A, 43 (2), 022404 (2025). DOI: 10.1116/6.0004171
  6. X. Multone, High vacuum chemical vapor deposition (HV-CVD) of alumina thin films, Thesis 4485 (Ecole Polytechnique Federale de Lausanne, Lausanne, 2009)
  7. M.P. Singh, S.A. Shivashankar, Surf. Coat. Technol., 161 (2), 135 (2002). DOI: 10.1016/S0257-8972(02)00470-X
  8. А.С. Митулинский, А.В. Гайдайчук, С.П. Зенкин, С.А. Линник, Письма в ЖТФ, 51 (13), 49 (2025). DOI: 10.61011/PJTF.2025.13.60705.20296 [A.S. Mitulinsky, A.V. Gaydaychuk, S.P. Zenkin, S.A. Linnik, Tech. Phys. Lett., 51 (7), 46 (2025). DOI: 10.61011/TPL.2025.07.61430.20296]
  9. L. Zhang, H.C. Jiang, C. Liu, J.W. Dong, P. Chow, J. Phys. D, 40 (12), 3707 (2007). DOI: 10.1088/0022-3727/40/12/025
  10. S. Lamouri, M. Hamidouche, N. Bouaouadja, H. Belhouchet, V. Garnier, G. Fantozzi, J.F. Trelkat, Bol. Soc. Esp. Ceram. Vidr., 56 (2), 47 (2017). DOI: 10.1016/j.bsecv.2016.10.001

Учредители

Издатель

© 2026 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme