Вышедшие номера
Особенности кристаллизации промежуточного слоя кремния в процессе переноса тонкого слоя 3C-SiC(001) на 6H-SiC(0001)-подложку
РНФ, 24-22-00232
Мясоедов А.В.1, Мынбаева М.Г. 1, Лебедев С.П. 1, Приображенский С.Ю. 1, Амельчук Д.Г. 1, Лебедев А.А. 1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: amyasoedov88@gmail.com, mgm@mail.ioffe.ru, Lebedev.Sergey@mail.ioffe.ru, Sergei.Prioby@mail.ioffe.ru, Amelchuk.Dmitriy@mail.ioffe.ru, Shura.Lebe@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 4 октября 2024 г.
В окончательной редакции: 4 октября 2024 г.
Принята к печати: 14 октября 2024 г.
Выставление онлайн: 26 февраля 2025 г.

Рассматриваются особенности кристаллизации связывающего слоя кремния между слоем кубического карбида кремния с ориентацией (001) и гексагональной (0001) 6H-SiC-подложкой. Обсуждаются общие закономерности, выявленные при формировании ориентационных соотношений для слоя кремния относительно слоя 3C-SiC и подложки 6H-SiC. Ключевые слова: карбид кремния, кремний, просвечивающая электронная микроскопия.