Вышедшие номера
Установка для исследования взаимодействия электроразрядной плазмы с поверхностью растворов
Чистолинов А.В.1, Якушин Р.В.2, Чепелев В.М.1, Тюфтяев А.С.1, Гаджиев М.Х.1
1Объединенный институт высоких температур РАН, Москва, Россия
2Российский химико-технологический университет им. Д.И. Менделеева, Москва, Россия
Email: a-chi@yandex.ru
Поступила в редакцию: 12 июля 2024 г.
В окончательной редакции: 14 октября 2024 г.
Принята к печати: 14 октября 2024 г.
Выставление онлайн: 26 февраля 2025 г.

Представлена установка для исследования взаимодействия электроразрядной плазмы с поверхностью водных растворов. В установке реализована оригинальная система поддержания регулируемого уровня жидкости в проточной разрядной ячейке. Для оптических исследований разряда наиболее интересен особый случай, когда уровень раствора совпадает с краем разрядной ячейки. Показано, что в этом случае удается получить фотографии области взаимодействия плазмы с поверхностью жидкости, не искаженные наложением отраженного от этой поверхности излучения плазмы. Установка может быть использована для широкого спектра исследований взаимодействия электроразрядной плазмы с поверхностью жидкостей, в том числе с применением оптических методов и методов эмиссионной спектроскопии. Ключевые слова: уровень жидкости, жидкий электрод, плазма, поверхность, электрический разряд, скоростная фотосъемка, эмиссионная спектроскопия.
  1. Y. Yang, Y.I. Cho, A. Fridman, Plasma discharge in liquid: water treatment and applications (CRC Press, 2012). DOI: 10.1201/b11650
  2. J. Ren, M. Yao, W. Yang, Y. Li, J. Gao, Centr. Eur. J. Chem., 12 (12), 1213 (2014). DOI: 10.2478/s11532-014-0575-6
  3. F. Rezaei, P. Vanraes, A. Nikiforov, R. Morent, N. De Geyter, Materials, 12 (17), 2751 (2019). DOI: 10.3390/ma12172751
  4. P. Bruggeman, C. Leys, J. Phys. D: Appl. Phys., 42 (5), 053001 (2009). DOI: 10.1088/0022-3727/42/5/053001
  5. P. Vanraes, A. Bogaerts, Appl. Phys. Rev., 5 (3), 031103 (2018). DOI: 10.1063/1.5020511
  6. A.V. Chistolinov, R.V. Yakushin, A.V. Perfilieva, M.A. Sargsyan, M.Kh. Gadzhiev, A.S. Tyuftyaev, J. Phys.: Conf. Ser., 1698, 012020 (2020). DOI: 10.1088/1742-6596/1698/1/012020
  7. P. Bruggeman, R. Frontiera, U. Kortshagen, M. Kushner, S. Linic, G. Schatz, H. Andaraarachchi, S. Exarhos, L. Jones, C. Mueller, C. Rich, C. Xu, Y. Yue, Y. Zhang, J. Appl. Phys., 129, 200902 (2021). DOI: 10.1063/5.0044261
  8. A.V. Chistolinov, M.A. Khromov, R.V. Yakushin, M.Kh. Gadzhiev, A.S. Tyuftyaev, J. Phys.: Conf. Ser., 2100, 012025 (2021). DOI: 10.1088/1742-6596/1394/1/012006
  9. А.В. Чистолинов, Р.В. Якушин, А.В. Перфильева, Прикладная физика, N 1, 12 (2022). DOI: 10.51368/1996-0948-2022-1-12-18
  10. P. Bruggeman, J. Liu, J. Degroote, M.G. Kong, J. Vierendeels, C. Leys, J. Phys. D: Appl. Phys., 41 (21), 215201 (2008). DOI: 10.1088/0022-3727/41/21/215201