Установка для исследования взаимодействия электроразрядной плазмы с поверхностью растворов
Чистолинов А.В.1, Якушин Р.В.2, Чепелев В.М.1, Тюфтяев А.С.1, Гаджиев М.Х.1
1Объединенный институт высоких температур РАН, Москва, Россия
2Российский химико-технологический университет им. Д.И. Менделеева, Москва, Россия

Email: a-chi@yandex.ru
Поступила в редакцию: 12 июля 2024 г.
В окончательной редакции: 14 октября 2024 г.
Принята к печати: 14 октября 2024 г.
Выставление онлайн: 26 февраля 2025 г.
Представлена установка для исследования взаимодействия электроразрядной плазмы с поверхностью водных растворов. В установке реализована оригинальная система поддержания регулируемого уровня жидкости в проточной разрядной ячейке. Для оптических исследований разряда наиболее интересен особый случай, когда уровень раствора совпадает с краем разрядной ячейки. Показано, что в этом случае удается получить фотографии области взаимодействия плазмы с поверхностью жидкости, не искаженные наложением отраженного от этой поверхности излучения плазмы. Установка может быть использована для широкого спектра исследований взаимодействия электроразрядной плазмы с поверхностью жидкостей, в том числе с применением оптических методов и методов эмиссионной спектроскопии. Ключевые слова: уровень жидкости, жидкий электрод, плазма, поверхность, электрический разряд, скоростная фотосъемка, эмиссионная спектроскопия.
- Y. Yang, Y.I. Cho, A. Fridman, Plasma discharge in liquid: water treatment and applications (CRC Press, 2012). DOI: 10.1201/b11650
- J. Ren, M. Yao, W. Yang, Y. Li, J. Gao, Centr. Eur. J. Chem., 12 (12), 1213 (2014). DOI: 10.2478/s11532-014-0575-6
- F. Rezaei, P. Vanraes, A. Nikiforov, R. Morent, N. De Geyter, Materials, 12 (17), 2751 (2019). DOI: 10.3390/ma12172751
- P. Bruggeman, C. Leys, J. Phys. D: Appl. Phys., 42 (5), 053001 (2009). DOI: 10.1088/0022-3727/42/5/053001
- P. Vanraes, A. Bogaerts, Appl. Phys. Rev., 5 (3), 031103 (2018). DOI: 10.1063/1.5020511
- A.V. Chistolinov, R.V. Yakushin, A.V. Perfilieva, M.A. Sargsyan, M.Kh. Gadzhiev, A.S. Tyuftyaev, J. Phys.: Conf. Ser., 1698, 012020 (2020). DOI: 10.1088/1742-6596/1698/1/012020
- P. Bruggeman, R. Frontiera, U. Kortshagen, M. Kushner, S. Linic, G. Schatz, H. Andaraarachchi, S. Exarhos, L. Jones, C. Mueller, C. Rich, C. Xu, Y. Yue, Y. Zhang, J. Appl. Phys., 129, 200902 (2021). DOI: 10.1063/5.0044261
- A.V. Chistolinov, M.A. Khromov, R.V. Yakushin, M.Kh. Gadzhiev, A.S. Tyuftyaev, J. Phys.: Conf. Ser., 2100, 012025 (2021). DOI: 10.1088/1742-6596/1394/1/012006
- А.В. Чистолинов, Р.В. Якушин, А.В. Перфильева, Прикладная физика, N 1, 12 (2022). DOI: 10.51368/1996-0948-2022-1-12-18
- P. Bruggeman, J. Liu, J. Degroote, M.G. Kong, J. Vierendeels, C. Leys, J. Phys. D: Appl. Phys., 41 (21), 215201 (2008). DOI: 10.1088/0022-3727/41/21/215201