Вышедшие номера
Фотоприемники с длинноволновой границей 2.4 μm на основе метаморфных InGaAs/InP-гетероструктур, выращенных методом металлоорганической газофазной эпитаксии
Калюжный Н.А. 1, Кижаев С.С.2, Минтаиров С.А.1, Пивоварова А.А.1, Салий Р.А.1, Черняев А.В.2,3
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Микросенсор Технолоджи, Санкт-Петербург, Россия
3Военная академия связи им. Маршала Советского Союза С.М. Буденного, Санкт-Петербург, Россия
Email: Nickk@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 22 апреля 2024 г.
В окончательной редакции: 8 мая 2024 г.
Принята к печати: 8 мая 2024 г.
Выставление онлайн: 31 июля 2024 г.

Технология выращивания метаморфных буферных слоев InGaAs на подложках InP применена для создания фотоприемников с длинноволновой границей 2.4 μm. Проведено сравнение оптических и электрических характеристик фотоприемников на основе метаморфной гетероструктуры InGaAs/InP и приборов на основе изопериодной системы GaInAsSb/GaSb. На приборную применимость разработанной технологии указывают высокая фоточувствительность и сопротивление фотодиодов при обратном смещении. Значения темновых токов коррелируют с низкой плотностью прорастающих дислокаций в активной области фотоприемников, которая оценивалась с помощью просвечивающей электронной микроскопии. Ключевые слова: фотоприемник, InGaAs/InP, металлоорганическая газофазная эпитаксия, метаморфный слой, гетероструктура.