Влияние слоя Ленгмюра на развитие неустойчивости расплавленной металлической поверхности под воздействием плазмы лазерного факела
Борматов А.А.1, Кожевин В.М.1, Гуревич С.А.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: antonbormat@mail.ru
Поступила в редакцию: 19 мая 2023 г.
В окончательной редакции: 15 сентября 2023 г.
Принята к печати: 30 октября 2023 г.
Выставление онлайн: 15 декабря 2023 г.
Рассмотрена задача о неустойчивости поверхности металла под воздействием плазмы лазерного факела в процессе наносекундной лазерной абляции в вакууме. Для решения задачи построена численная модель слоя Ленгмюра, применимая для проведения расчетов в случае, когда толщина слоя много меньше характерной длины волны возмущения поверхности расплава. Анализ результатов расчетов позволил найти линейные аппроксимации распределений давления ионов и электрического поля на поверхности металла. Использование этих аппроксимаций позволило получить аналитический критерий перехода поверхности в неустойчивое состояние. Показано также, что влияние слоя Ленгмюра приводит к снижению действия капиллярных сил, что может быть использовано для модификации критериев развития неустойчивости в других механизмах. Ключевые слова: плазма лазерного факела, капиллярная неустойчивость, взаимодействие плазмы и жидкости.
- С.А. Ахманов, В.И. Емельянов, Н.И. Коротеев, В.Н. Семиногов, УФН, 147 (12), 675 (1985). DOI: 10.3367/UFNr.0147.198512b.0675 [S.A. Akhmanov, V.I. Emel'yanov, N.I. Koroteev, V.N. Seminogov, Sov. Phys. Usp., 28, 1084 (1985). DOI: 10.1070/PU1985v028n12ABEH003986]
- А.Б. Брайловский, И.А. Дорофеев, А.Б. Езерский, В.А. Ермаков, В.И. Лучин, В.Е. Семенов, ЖТФ, 61 (3), 129 (1991)
- A.B. Brailovsky, S.V. Gaponov, V.I. Luchin, Appl. Phys. A, 61 (1), 81 (1995). DOI: 10.1007/BF01538216
- L.K. Ang, Y.Y. Lau, R.M. Gilgenbach, H.L. Spindler, J.S. Lash, S.D. Kovaleski, J. Appl. Phys., 83 (8), 4466 (1998). DOI: 10.1063/1.367208
- V.M. Kozhevin, D.A. Yavsin, V.M. Kouznetsov, V.M. Busov, V.M. Mikushkin, S.Yu. Nikonov, S.A. Gurevich, A. Kolobov, J. Vac. Sci. Technol. B, 18 (3), 1402 (2000). DOI: 10.1116/1.591393
- D.S. Ilyushenkov, V.I. Kozub, D.A. Yavsin, V.M. Kozhevin, I.N. Yassievich, T.T. Nguyen, E.H. Bruck, S.A. Gurevich, J. Magn. Magn. Mater., 321 (5), 343 (2009). DOI: 10.1016/j.jmmm.2008.09.024
- A.M. Elsied, P.C. Dieffenbach, P.K. Diwakar, A. Hassanein, Spectrochim. Acta B, 143, 26 (2018). DOI: 10.1016/j.sab.2018.02.012
- S. Cai, W. Xiong, F. Wang, Y. Tao, S. Tan, X. Ming, X. Sun, Appl. Surf. Sci., 475, 410 (2019). DOI: 10.1016/j.apsusc.2018.12.117
- A. Bogaerts, Z. Chen, R. Gijbels, A. Vertes, Spectrochim. Acta B, 58 (11), 1867 (2003). DOI: 10.1016/j.sab.2003.08.004
- А.А. Борматов, В.М. Кожевин, С.А. Гуревич, ЖТФ, 91 (5), 721 (2021). DOI: 10.21883/JTF.2021.05.50682.283-20 [A.A. Bormatov, V.M. Kozhevin, S.A. Gurevich, Tech. Phys., 66, 705 (2021). DOI: 10.1134/S1063784221050078]
- T.N. Rostovshchikova, E.S. Lokteva, E.V. Golubina, K.I. Maslakov, S.A. Gurevich, D.A. Yavsin, V.M. Kozhevin, in Advanced nanomaterials for catalysis and energy advanced nanomaterials for catalysis and energy (Elsevier, 2019), p. 61--97. DOI: /10.1016/B978-0-12-814807-5.00003-6
- В.В. Владимиров, П.М. Головинский, Г.А. Месяц, ЖТФ, 57 (8), 1588 (1987)
- J.T. Holgate, M. Coppins, J. Phys. D: Appl. Phys., 53 (10), 105204 (2020). DOI: 10.1088/1361-6463/ab53fd
- P. Vanraes, A. Bogaerts, J. Appl. Phys., 129 (22), 220901 (2021). DOI: 10.1063/5.0044905
- J.T. Holgate, M. Coppins, J.E. Allen, New J. Phys., 21 (6), 063002 (2019). DOI: 10.1088/1367-2630/ab20fe
- R.N. Franklin, J. Phys. D: Appl. Phys., 36 (22), R309 (2003). DOI: 10.1088/0022-3727/36/22/R01
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.