Вышедшие номера
Теплопроводность гибридных подложек SiC/Si для роста светодиодных гетероструктур
Кукушкин С.А. 1, Марков Л.К. 2, Осипов А.В. 1, Святец Г.В.3, Черняков А.Е.4, Павлов С.И. 2
1Институт проблем машиноведения РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
3OOO "Научно-технический центр "Новые технологии", Санкт-Петербург, Россия
4НТЦ микроэлектроники РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: sergey.a.kukushkin@gmail.com, l.markov@mail.ioffe.ru, andrey.v.osipov@gmail.com, chernyakov.anton@yandex.ru, pavlov_sergey@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 7 апреля 2023 г.
В окончательной редакции: 17 мая 2023 г.
Принята к печати: 17 мая 2023 г.
Выставление онлайн: 28 июня 2023 г.

Экспериментально исследованы тепловые характеристики образцов SiC/Si, полученных методом согласованного замещения атомов, при различных толщинах SiC. Установлено, что при толщинах SiC, меньших 200 nm, тепловое сопротивление SiC/Si примерно равно 2 K/W, что совпадает с величиной для чистой подложки кремния. Такие образцы будут прекрасно отводить тепло от светоизлучающей гетероструктуры, выращенной на SiC/Si. При увеличении толщины SiC происходит отслоение пленки SiC, что приводит к потере теплового контакта между SiC и Si. Тепловое сопротивление возрастает при этом более чем на два порядка. Возможность легкого удаления непрозрачной части подложки может лечь в основу технологии изготовления светодиодных чипов flip-chip-конструкции. Ключевые слова: светодиоды, карбид кремния на кремнии, III-V гетероструктуры, тепловое сопротивление.