Вышедшие номера
Формирование гетероструктур GaP/Si-фотопреобразователей с помощью комбинации методов МОС-гидридной эпитаксии и атомно-слоевого плазмохимического осаждения
Российский научный фонд, 17-19-01482
Уваров А.В.1,2, Баранов А.И.1,2, Вячеславова Е.А.1,2, Калюжный Н.А.3, Кудряшов Д.А.1,2, Максимова А.А.1,2, Морозов И.А.1,2, Минтаиров С.А.3, Салий Р.А.3, Гудовских А.С.1,2
1Санкт-Петербургский национальный исследовательский Академический университет имени Ж.И. Алфёрова Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
3Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: lumenlight@mail.ru
Поступила в редакцию: 24 марта 2021 г.
В окончательной редакции: 26 апреля 2021 г.
Принята к печати: 27 апреля 2021 г.
Выставление онлайн: 18 мая 2021 г.

Впервые показана возможность создания нижнего перехода многопереходных A3B5/Si солнечных элементов на основе гетероструктуры n-GaP/p-Si, выращенной с помощью комбинации технологий атомно-слоевого плазмохимического осаждения и металлоорганической газофазной эпитаксии при температуре Ts, не превышающей 650oС. Фотоэлектрические свойства структур, выращенных при Ts≤ 650oС, зависят от условий процесса, в частности от использования дополнительной обработки в плазме Ar. Ключевые слова: фосфид галлия, кремний, солнечный элемент.