Вышедшие номера
Барьер Шоттки на контакте магнитного 3d-металла с полупроводником
Давыдов С.Ю.1, Посредник О.В.2
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
Email: Sergei_Davydov@mail.ru
Поступила в редакцию: 9 декабря 2020 г.
В окончательной редакции: 9 марта 2021 г.
Принята к печати: 10 марта 2021 г.
Выставление онлайн: 7 апреля 2021 г.

С помощью модели Фриделя для d-зоны переходного металла и модели локального дефекта для полупроводника получены аналитические выражения для перехода заряда (электронов или дырок) между металлом и полупроводником и высоты барьера Шоттки. Показано, что учет намагниченности металла ведет к увеличению перехода заряда и связанного с этим вклада в высоту барьера Шоттки. Численные оценки представлены для контактов Со и Ni с 6H- и 4H-политипами SiC. Ключевые слова: магнитный металл, полупроводник, локальный дефект, переход заряда, высота барьера Шоттки.