С помощью комбинации двух методик (неразрушающего радиоактивационного анализа на пучках протонов и оптической микроинтерферометрии) измерены соответственно массовые и линейные толщины покрытий AlN и CrN, осажденных на кремниевые подложки методом магнетронного распыления. Показано, что при линейных толщинах от 2.2 до 5.7 μm плотность покрытий близка к значениям для объемных материалов AlN (3.26 g/cm³) и CrN (5.9 g/cm³), а стехиометрию нитридов можно контролировать, изменяя параметры магнетронного осаждения. Методика может быть использована также для определения плотности покрытий из карбидов и оксидов металлов, которые применяются в качестве износостойких покрытий. Ключевые слова: плотность, радиоактивационный анализ, магнетрон, микроинтерферометр.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.