Вышедшие номера
Хлорид-гидридная газофазная эпитаксия полуполярного слоя AlN(1012) на наноструктурированной подложке Si(100)
Переводная версия: 10.1134/S1063785020010174
Бессолов В.Н. 1, Компан М.Е.1, Коненкова Е.В. 1, Пантелеев В.Н. 1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: bes.triat@mail.ioffe.ru, lena@triat.ioffe.rssi.ru, pantiley@yahoo.com
Поступила в редакцию: 7 октября 2019 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2019 г.

Предложен метод синтеза гексагонального слоя AlN на подложке Si(100) с наноструктурированной V-образной поверхностью, для которой угол между наклонной плоскостью "нанохребта" и Si(100) составляет 47o. Показано, что метод хлорид-гидридной газофазной эпитаксии на такой подложке позволяет сформировать полуполярный слой AlN(1012) при минимальной полуширине рентгенодифракционной кривой качания omegatheta~ 60 arcmin. Обнаружено, что спектры комбинационного рассеяния света полуполярного слоя AlN(10 12) содержат дополнительные пики на кривых комбинационного рассеяния света, cвязанные с фононами A1(TO) и E1(TO), в отличие от полярного слоя AlN(0001), где дополнительно проявляется пик A1(LO). Ключевые слова: полуполярный нитрид алюминия, хлорид-гидридная эпитаксия, комбинационное рассеяние света.