Письма в журнал технической физики
Авторам
Вышедшие номера
- 2024
- 2023
- 2022
- 2021
- 2020
- 2019
- 2018
- 2017
- 2016
- 2015
- 2014
- 2013
- 2012
- 2011
- 2010
- 2009
- 2008
- 2007
- 2006
- 2005
- 2004
- 2003
- 2002
- 2001
- 2000
- 1999
- 1998
- 1997
- 1996
- 1995
- 1994
- 1993
- 1992
- 1991
- 1990
- 1989
- 1988
Глубокая 3D-рентгенолитография на основе высококонтрастного рентгенорезиста
Переводная версия: 10.1134/S1063785019090256 
RFBR , 19-42-540014 r_а
1Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера СО РАН, Новосибирск, Россия 
Email: V.P.Nazmov@inp.nsk.su
Поступила в редакцию: 17 мая 2019 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2019 г.
В классической рентгеновской литографии рентгеновская маска и слой резиста располагаются перпендикулярно рентгеновскому лучу, который, поглощаясь в слое резиста, инициирует вдоль своего пути отклик в форме, соответствующей его поперечному сечению. Однако наклон и поворот маски/резиста, а также несколько экспозиций, проведенных последовательно, позволяют создать реальную трехмерную форму с точностью лучше микрометра. Описаны подходы к созданию реальных трехмерных микроструктур методом глубокой рентгеновской литографии, позволяющие формировать из них относительно большие массивы. Ключевые слова: рентгеновская литография, двойное облучение, контрастность.
- Domel A., Saadat M., Weaver J., Haj-Hariri H., Bertoldi K., Lauder G. // J. R. Soc. Interface. 2018. V. 15. P. 20170828
- Autumn K., Liang Y., Hsieh S., Zesch W., Chan W., Kenny T., Fearing R., Full R. // Nature 2000. V. 405. P. 681--685
- Lu Y., Yang Y., Guest J., Srivastava A. // Sci. Rep. 2017. V. 7. P. 43407
- Bertsch A., Renaud P. Microstereolithography // Three-dimensional microfabrication using two-photon polymerization: fundamentals, technology, and applications / Ed. T. Baldacchini. Amsterdam: Elsevier, 2015. P. 47--71
- Feiertag G., Ehrfeld W., Freimuth H., Kolle H., Lehr H., Schmidt M., Sigalas M.M., Soukoulis C.M., Kiriakidis G., Pedersen T., Kuhl J., Koenig W. // Appl. Phys. Lett. 1997. V. 71. P. 1441--1443
- Horade M., Sugiyama S. // Microsyst. Technol. 2010. V. 16. P. 1331--1338
- Spears D.L., Smith H.I. // Electron. Lett. 1972. V. 8. P. 102--104
- LIGA and its applications, advanced micro \& nanosystems. V. 7 / Eds V. Saile, U. Wallrabe, O. Tabata, J. Korvink. Weinheim: WILEY-VCH GmbH, 2009. 480 p
- Асадчиков В.Е., Бедин С.А., Васильев А.Б., Григорьев Ю.В., Назьмов В.П. // Письма в ЖТФ. 2019. Т. 45. В. 5. С. 49--51
- Simon M., Reznikova E., Nazmov V., Last A., Jark W. // Proc. SPIE. 2008. V. 7077. P. 70771Q. DOI: 10.1117/12.795423
- Фёдоров С.М. Сверхширокополосные линзовые антенны с коммутационным сканированием в азимутальной плоскости. Канд. дис. Воронеж: Воронеж. гос. техн. ун-т, 2013. 146 с
- Kunka D., Mohr J., Nazmov V., Meiser J., Meyer P., Amberger M., Koch F., Schulz J., Walter M., Duttenhofer T., Voigt A., Ahrens G., Grutzner G. // Microsyst. Technol. 2014. V. 20. P. 2023--2029
- Гольденберг Б.Г., Лемзяков А.Г., Зелинский А.Г., Назьмов В.П., Пиндюрин В.Ф. // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2016. N 1. С. 64--67
- Schroer C., Benner B., Gnzler T., Kuhlmann M., Zimprich C., Lengeler B., Rau C., Weitkamp T., Snigirev A., Snigireva I., Appenzeller J. // Rev. Sci. Instrum. 2002. V. 73. P. 1640--1642
- Bourdillon A., Boothroyd C., Williams G., Vladimirsky Y. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2003. V. 36. P. 2471--2482
- Валиев К.А. // Физика субмикронной литографии. М.: Наука, 1990. 528 с
- Schaedler T.A., Jacobsen A.J., Torrents A., Sorensen A.E., Lian J., Greer J.R., Valdevit L., Carter W.B. // Science. 2011. V. 334. P. 962--965. DOI: 10.1126/science.1211649
- Назьмов В., Бергер М., Хайслер С. // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2011. N 11. С. 3--7.
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
